等离子装置 发明专利 883
序号 专利号 名称
1 01118250.4 物理化学的电子束抛光方法
2 02121655.X 基板处理方法及装置
3 01802713.X 用于除去石油储罐中淤浆所含烃类和/或用于处理含烃废料的等离子体方法以及适宜装
4 02116184.4 球型无电极照明装置
5 02131308.3 一种降低柴油发动机尾排的方法及其装置
6 02102697.1 制造阵列波导器件的方法及装置
7 02128254.4 表面处理装置
8 02130235.9 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
9 01806109.5 等离子聚合装置中的供气和排气系统
10 02145714.X 基板的洗涤方法，基板洗涤装置以及零件的安装方法
11 02133101.4 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置
12 02151074.1 切割与划线设备中的机械手夹具与工具交换装置
13 02155430.7 微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置
14 01806423.X 具有两个触点副的真空开关管
15 02106576.4 用于制造碳结构的生产设备和生产方法
16 01806886.3 等离子体加速器装置
17 01806885.5 等离子体加速器装置
18 01805477.3 柴油机尾气中的烟黑和氮氧化物去除装置
19 01807854.0 双等离子体喷管装置
20 00818406.2 等离子体加工装置的温度控制系统
21 00818407.0 用于产生均匀加工速率的方法和装置
22 00818408.9 用于控制等离子体体积的方法和设备
23 01806434.5 用于工件的等离子体清洗的方法和装置
24 01808088.X 高频等离子体源
25 01808196.7 用于双极供电的电源装置
26 01144116.X 废弃物等离子体高温处理工艺和设备
27 02127324.3 感应耦合式等离子体装置
28 01808503.2 改善蚀刻多晶硅的均匀性和减少其蚀刻速率变化的方法
29 02123074.9 具有甚高频并联谐振天线的等离子体处理设备
30 01803769.0 用于在等离子聚合装置中固定电极的装置
31 02123440.X 等离子体化学气相法批量生产氮化硅粉体转相工艺及系统
32 02139326.5 等离子体辅助化学气相沉积装置脉冲电源的驱动电路
33 01138023.3 液体处理方法及其处理装置
34 01810242.5 用于控制等离子体体积的等离子体形成内磁桶的方法和设备
35 01810248.4 改变磁场以控制等离子体体积的方法和设备
36 01811073.8 高效小型电容耦合等离子反应器/生成器及方法
37 01810986.1 磁控管溅射
38 03100757.0 感应耦合型等离子体刻蚀装置中使用的气体扩散板
39 02156669.0 电感耦合等离子体处理装置
40 99811613.0 等离子体处理系统中腐蚀终点的确定方法和确定装置
41 02103974.7 聚炳烯腈纤维预氧化及碳化新工艺及装置
42 03145460.7 高耐久性石英玻璃，其制造方法，使用它的部件及装置
43 02120373.3 存储器装置及其制造方法
44 02126995.5 耐热性优良的等离子腐蚀电极及使用它的干腐蚀装置
45 01815791.2 将含碳原料转变为有清晰纳米结构含碳材料的装置和方法
46 03115816.1 金属熔体中硫磷杂质的去除方法
47 03121195.X 包含等离子体测量装置的等离子体设备
48 03110402.9 等离子体处理装置和等离子体处理方法
49 03119377.3 清洗等离子加工装置的方法
50 01812248.5 处理装置运转的监视方法
51 02800918.5 等离子体处理装置
52 02800919.3 等离子体处理装置
53 02800920.7 等离子体处理装置
54 02800922.3 等离子体处理装置以及半导体制造装置
55 96121669.7 接触起动等离子切割过程的方法和设备
56 95120101.8 等离子电弧电源装置
57 96107160.5 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
58 96109322.6 从离子束中和装置和注入装置就地清除污染物用的方法和装置
59 96111841.5 气体处理方法和设备
60 95194088.0 测定不同介质的折射系数的方法和装置
61 96121975.0 使用无机过氧化氢配合物蒸汽消毒
62 95118742.2 微波传播和吸收区分开的等离子体装置
63 96109855.4 用于半导体晶片干燥蚀刻的等离子体加工装置
64 96109934.8 热轧设备
65 97102495.2 等离子切割方法及数控等离子切割装置
66 97103106.1 等离子处理机及其处理方法
67 96113232.9 彩色滤光器基板的制造方法
68 97110156.6 电势能发电机及电势能飞行器
69 85100378 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
70 85104800 产生具有加热并展宽等离子喷射的等离子流的方法及装置
71 85106398 等离子喷枪的喷嘴装置
72 87103360 具有可调径向和切向等离子气体流比的改进的等离子焰喷射枪的方法及装置
73 86106257 等离子碳热法生产钼铁
74 86103975 瞬态流场高速、多幅干涉测试仪
75 87104633 感应耦合等离子体质量分析仪
76 87101108 热喷涂法制备陶瓷固体器件的电极
77 87104097 薄状物等离子体处理装置
78 88100069 氧气浓度检测器
79 88103302.2 从气体中提取气化物的方法和装置
80 87108198.9 用于原子吸收和发射光谱法的大气压容性耦合等离子体雾化器
81 89101741.0 等离子体的产生方法和装置
82 89101142.0 超导陶瓷的次大气压等离子体喷涂
83 89103142.1 用余辉等离子体清洗表面的方法
84 88108991.5 等离子体收缩系统及其使用方法
85 89108294.8 用等离子体改善纺织品印染前毛效
86 89108404.5 用等离子体改善纸张油墨接收能力
87 91102506.5 具有外部粉末加料器的等离子喷射装置
88 92101734.0 等离子体增强的化学气相淀积装置
89 91105947.4 斑纹贻贝的控制
90 91104538.4 用于纤维、纺织品改性的等离子体处理方法及其装置
91 92103430.X 反射式双反应室等离子体锑白炉
92 93105483.4 生产炭黑的系统
93 93103682.8 物料的处理
94 94102578.0 冷等离子体灭菌消毒装置
95 92101959.9 一种罗伦兹效应海水淡化装置
96 94116647.3 脉冲放电等离子体水处理方法及装置
97 94119855.3 制造半导体集成电路的方法和设备
98 95100622.3 真空等离子处理装置
99 94103080.6 低压自启辉、自引弧方法及装置
100 94100668.9 冷等离子体灭菌消毒装置
101 94111339.6 组合分列式等离子切割机电源装置
102 94120714.5 能够产生高能等离子体束的等离子体束产生方法及其装置
103 95103335.2 烟气的放电催化还原脱硫方法及其装置
104 94191296.5 等离子切割方法及NC等离子切割装置
105 95104699.3 螺旋波等离子处理方法及装置
106 94119426.4 提高表面等离子体波传感器测量精度的方法及其传感器
107 95118293.5 微波等离子吹管及产生等离子体的方法
108 95118406.7 等离子驱动电路
109 95121544.2 等离子弧割炬
110 95110965.0 空气等离子切割引弧模块装置
111 95115736.1 等离子体处理装置
112 95190943.6 无衬标签印刷和传送装置
113 95103439.1 平面往复式连续焊枪
114 95190857.X 用于在等离子电弧中制备粉末的方法及实施该方法的设备
115 96106155.3 气体传热等离子体处理装置
116 97113795.1 用过氧化氢预处理的消毒方法
117 97115408.2 等离子体处理装置
118 96119824.9 等离子体冶炼难熔金属的方法和装置
119 97111642.3 处理废气的装置及方法和其中应用的脉冲发生器
120 96191477.7 废气净化装置
121 96120052.9 一种磁控电弧等离子体加热金属件的方法及装置
122 96192620.1 等离子切割方法
123 97115002.8 等离子体渗碳处理金属工件的装置及其方法
124 96193503.0 快速骤冷反应器和方法
125 97108729.6 通过等离子体处理为限流聚合物提供低电阻电界面
126 97190311.5 水的非化学等离子消毒方法及装置
127 97106747.3 低温等离子体工业废气处理技术
128 98100083.5 一种等离子体蚀刻装置及其方法
129 97125292.0 等离子体化学气相沉积装置
130 96198677.8 电容耦合的射频类金刚石碳反应器
131 98115735.1 全波长表面等离子体激元共振光化学传感装置
132 96197974.7 无衬标签分割器
133 98108077.4 等离子体处理装置及等离子体处理方法
134 97193537.8 在弥散受限的环境中进行消毒的方法
135 98800128.4 电路装置
136 96196520.7 城市垃圾的等离子高温分解和玻璃化
137 98100019.3 无烟气排放、节能的火力发电技术与装置
138 98122788.0 等离子处理装置和等离子处理方法
139 98120050.8 现场监视等离子体腐蚀装置及方法
140 97198505.7 离子喷镀装置
141 97192566.6 分离气体放电管管帽的方法和装置
142 97192436.8 模场直径纤维转换器、局部变化光波导折射率的方法以及制备光波导预制件的方法
143 96199441.X 用高电压电场清除废气和降低噪声的方法和装置
144 98113611.7 用等离子体转化生物有机质的方法及设备
145 98108047.2 等离子体系统与操作等离子体系统的方法
146 97181165.2 改进的等离子体转移金属丝弧热喷镀装置及方法
147 97180895.3 反射陶瓷套管内装有发射光的等离子体的灯装置
148 99800288.7 电介质阻挡层放电灯光源装置及其供电装置
149 99122600.3 生产瞬间高能电流的方法及其装置
150 98122870.4 激光等离子体参数的测量装置及其测量方法
151 99126967.5 等离子处理装置
152 98809276.X 电抗匹配系统及方法
153 00112273.8 射频清洗工艺
154 98809766.4 双面簇射头磁控管、等离子体产生装置和涂敷衬底的方法
155 98805947.9 用等离子体聚合反应来改善制冷和空调用金属的表面
156 00116391.4 激光与等离子体相互作用参数的诊断装置
157 99114898.3 核聚变实验装置等离子体加料的超声分子束方法
158 98810182.3 应用等离子体密度梯度来产生粒子流的装置和方法
159 98810181.5 调整等离子体密度分布的装置和方法
160 99104445.2 用来在过程中使离子源清洁的系统和方法
161 98801786.5 制备复合碳分子的方法和装置
162 99118116.6 开关装置及其制造方法
163 97181836.3 包括用于开关电源的火花隙的开关设备
164 97181832.0 包括用于开关电源的火花隙的开关设备
165 97182058.9 多功能表面处理的方法及实施该方法的设备
166 99119342.3 一种弧光传感等离子弧焊小孔行为的方法及其装置
167 99114809.6 金属叶片等离子淬火系统及淬火方法
168 99122005.6 等离子体处理装置及用这种装置进行等离子体处理的方法
169 98122114.9 全功能牙科手机消毒方法及其装置
170 00120164.6 Ⅲ－Ⅴ族氮化物半导体的生长方法及气相生长装置
171 98812183.2 等离子硼化
172 98813441.1 用于从平面板脉冲成形盘形物的方法和设备
173 98813827.1 等离子体化学汽相淀积装置和制造光纤、预制棒及套管的方法以及由此制造的光纤
174 99119642.2 自动波长校正的顺序电感耦合等离子体光谱仪及应用方法
175 99803237.9 药物配送装置
176 99120032.2 交流等离子熔融还原铬镍精矿直接冶炼不锈钢的方法和装置
177 00100054.3 无限空气新能源技术与装置
178 99801325.0 介质阻挡层放电灯光源装置
179 00129551.9 检测等离子弧焊“小孔”的装置及其方法
180 00112121.9 用于激光冲击处理的安全无污染冲击头
181 99809994.5 等离子体加速器装置
182 00801263.6 改进的固定均匀环设计
183 01112386.9 等离子体处理装置
184 00106152.6 采用接地导电栅网的直流等离子体离子注入装置
185 00110422.5 一种高气压微波等离子体激励装置
186 01121318.3 "混合电弧/激光焊接工艺,特别用来焊接管子或汽车构件"
187 99805092.X 磁控管中用于控制目标冲蚀和溅射的装置
188 00133330.5 微波照明装置的等离子灯的结构
189 99120078.0 交流等离子熔融还原直接冶炼微碳铁合金的方法和装置
190 00131288.X 直接快速制造模具与零件的方法及其装置
191 00137365.X 等离子体处理装置
192 00136449.9 对准管芯与柔性基板上互连金属的装置、方法及其产品
193 01101530.6 热固性树脂的固化促进方法及其装置
194 98813826.3 放电灯光源装置和方法
195 00110984.7 等离子助燃器
196 01118648.8 等离子体处理设备和等离子体处理方法
197 99814142.9 模塑溢料去除方法和设备
198 01121458.9 电接合方法和装置以及接合的部件组件
199 00109824.1 一种用辉光放电表面处理中等离子体探针诊断的装置
200 01128438.2 用于PCVD加工的光纤预制棒沉积车床
201 01119454.5 处理废气的装置及方法和其中应用的脉冲发生器
202 00803916.X 处理部件表面的方法和装置
203 00128708.7 等离子焚烧处理有机卤化物的方法及工业装置
204 00123254.1 一种脉冲微波强化高压低温等离子体化学反应装置
205 01138501.4 "辐照离子束的方法与装置,以及相关方法及其装置"
206 00807804.1 包含连接在中间碳覆盖层上的亲水性聚合物链的硅氧烷水凝胶接触镜片的表面处理
207 01142968.2 用于离子束照射装置的离子产生装置
208 00809597.3 "等离子体处理系统和设备,及用于输送射频功率至等离子体处理室的方法"
209 02109015.7 一种掠发射X射线荧光分析用样品制备装置
210 01800494.6 PFC处理方法及其处理装置
211 01800178.5 用紫外线分光计测定等离子体聚合的聚合物层的装置
212 00810343.7 使用毛细管电极放电等离子体簇射的等离子体处理装置
213 01141660.2 无轨行走单道全熔透弧焊装置和方法
214 00810427.1 通过激光硬化进行金属的成型
215 02112861.8 利用微波激发等离子体对医疗器械进行灭菌的方法及装置
216 02108500.5 氢气发动机、动力驱动系统及所驱动的车辆
217 01128849.3 一种脉冲电晕等离子体烟气脱硫用的高压脉冲电源装置
218 00809793.3 改善蚀刻率均匀性的技术
219 02111447.1 微束等离子焊机
220 00813380.8 采用电等离子体技术清洗和/或涂覆金属表面的改进方法和装置
221 02107970.6 硅化钨层的形成方法
222 01128165.0 等离子体裂化燃烧器
223 01110453.8 以光学方法测量温度并监控蚀刻率的方法
224 02105984.5 等离子体处理装置及等离子体处理方法
225 02115200.4 等离子体对III－V族化合物的干法刻蚀系统及刻蚀方法
226 00814827.9 用于通过低压等离子体处理容器的装置的真空通路
227 02118812.2 法拉第装置
228 200710059809.1 等离子体灭菌机定量注液装置
229 200710133193.8 等离子割炬初始定位装置
230 200710134096.0 超声频脉冲等离子弧切割方法及装置
231 200710018821.8 一种用TiCl₄真空辉光放电制备金属钛的装置及方法
232 200710092893.7 角度型便携式表面等离子谐振生化分析仪的扫描成像装置
233 200710180882.4 等离子体处理装置
234 200680008494.1 用于对金属带进行除鳞处理的方法和装置
235 200710052759.4 一种从工业有机废气中回收微细碳粉的方法和装置
236 200710009641.3 等离子体反应器催化剂及其制备方法和用途
237 200710169238.7 等离子加工装置
238 200710169240.4 等离子加工装置和方法
239 200610153707.1 处理系统及其等离子体产生装置
240 200710169239.1 等离子加工装置及其电极结构
241 200680009019.6 基板处理方法和基板处理装置
242 200580044487.2 气体等离子体灭菌装置
243 200710071224.1 高压脉冲气相增湿放电处理废水的方法
244 200710071225.6 脱硫废水水质恢复方法及其装置
245 200610113334.5 气体注射装置
246 200610116449.X 等离子体约束装置
247 200710085457.7 具有可调式电导体的装置及调整可调式电导体的方法
248 200680010525.7 高分子成型产品表面处理装置
249 200680010228.2 等离子掺杂方法和等离子处理装置
250 200680010314.3 等离子体掺杂方法及用于其的设备
251 200710133192.3 等离子割炬位移防碰撞装置
252 200610112711.3 连接装置
253 200710148831.3 基板的等离子处理装置和等离子处理方法
254 200710148832.8 基板的等离子处理装置和等离子处理方法
255 200710145785.1 检测等离子体工艺异常的频率监控
256 200710161767.2 微波等离子体处理装置、其制造及使用方法、一体型槽形成部件
257 200680011056.0 基板的氮化处理方法和绝缘膜的形成方法
258 200680011252.8 用于生成、加速和传播电子束和等离子体束的设备和方法
259 200710192414.9 废钢轨解体方法
260 200710146401.8 溅射沉积装置和方法
261 200710182349.1 等离子体处理装置和可变阻抗装置的校正方法
262 200680007898.9 利用等离子气体放电体处理生物组织的系统和方法
263 200710163646.1 利用微波等离子体在热塑容器上沉积内阻挡涂层的装置
264 200710163701.7 用微波等离子体在热塑性容器中沉积内部屏蔽涂料的装置
265 200710106753.0 半导体制程的装置与方法
266 200610149604.8 等离子导引机构及应用该导引机构的等离子放电装置
267 200710053438.6 一种自旋失措三价钛尖晶石金属氧化物的制备方法
268 200680013776.0 倾斜等离子掺杂
269 200680014707.1 可互换的等离子体喷嘴接口
270 200710158656.6 等离子数控切割机功能扩展方法
271 200710145687.8 等离子蚀刻工艺的控制装置
272 200710162644.0 等离子体处理装置和等离子体处理方法以及存储介质
273 200710164030.6 处理基片的装置和方法及供应等离子体的方法
274 200680015294.9 废气用干式同时脱硫脱硝装置
275 200710157939.9 白水泥以碳和等离子复合还原复合增白方法及专用装置
276 200710165355.6 用于光掩模刻蚀的终点检测
277 200710129977.3 用于等离子体反应器系统的工件旋转装置
278 200710143238.X 用于光掩模等离子体蚀刻的方法和装置
279 200680010522.3 用于维护具有机器人的等离子体处理系统的装置
280 200710178620.4 一种高分辨显微三维成像装置
281 200710167538.1 基板处理装置和该装置的分析方法
282 200710168038.X 载置装置、等离子体处理装置和等离子体处理方法
283 200680014569.7 对液体、固体或者气体物质进行净化和消毒的设备及方法
284 200580040899.9 具有第一和第二基底的微等离子体装置
285 200710162175.2 排气净化装置
286 200710162185.6 排气净化装置
287 200710071290.9 一种沥青废气治理方法及装置
288 200710165337.8 具有接地构件完整性指示器的等离子体处理室及其使用方法
289 200610138770.8 三维带状流探针系统
290 200710188373.6 高频电源装置及高频功率供给方法
291 200680019335.1 等离子体处理装置
292 200680019287.6 等离子体处理装置和等离子体处理方法
293 200710165354.1 等离子体反应器基板安装表面毛化
294 200710187196.X 等离子体的磁约束
295 200680020281.0 等离子体氮化处理方法、半导体装置的制造方法和等离子体处理装置
296 200710031822.6 直流等离子体化学气相沉积设备
297 200680021600.X 增强装置及其使用方法
298 200710198723.7 用于等离子体处理塑料组件的系统
299 200710181227.0 基片损伤防止系统和方法
300 200710168160.7 等离子处理装置
301 200680013410.3 等离子体离子植入中的轮廓调整
302 200610167759.4 一种集成空气净化方法
303 200610169563.9 排气装置及包含该排气装置的反应腔室
304 200610169567.7 干涉光检测装置及校准该装置的方法
305 200710195975.4 防止处理腔室暴露于等离子体的端口处电弧的方法和装置
306 200710302149.5 等离子体处理装置
307 200610128490.9 便捷更换表面等离子共振生物芯片装置和使用方法
308 200680023933.6 用于测量等离子体中电特性组的装置
309 200680023841.8 包括分子辐射体和添加剂的低压放电灯
310 200810059071.3 基于表面等离子共振技术的全自动浓度测定装置
311 200810056085.X 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置
312 200680025252.3 具备复合天线线圈组的等离子体反应装置
313 200710077275.5 一种低温等离子体汽车尾气净化装置
314 200710175384.0 高能束流多晶硅提纯装置
315 200710301837.X 用于磁场增强等离子体反应器中成形磁场的方法
316 200680026329.9 空气净化和消毒装置
317 200710100810.4 气体处理装置及气体处理方法
318 200710156309.X 一种喷漆车间用的废气净化装置
319 200810000424.2 基底处理装置和方法
320 200710134539.6 一种用于汽车尾气治理的电晕放电等离子体反应器
321 200810005545.6 等离子体处理装置
322 200680027839.8 微机电系统封装和互连
323 200710173290.X 用于处理市政设施恶臭气体的装置和方法
324 200810003076.4 等离子体处理装置
325 200810009208.4 等离子体处理装置和等离子体处理方法以及存储介质
326 200680029085.X 产生用于间质术中辐射治疗的电子束和X射线束的设备
327 200810026688.5 一种等离子体辅助高能滚筒球磨装置
328 200810026690.2 一种等离子体辅助高能行星球磨装置
329 200810026687.0 一种等离子体辅助高能搅拌球磨装置
330 200710026808.7 信号输入装置
331 200810082565.3 用于前段工艺制造的原地干洗腔
332 200810085234.5 改善蚀刻率均匀性的技术
333 200680030553.5 偏压晶片时的铝溅镀
334 200680029458.3 微波等离子反应器
335 200680030216.6 等离子体产生装置、等离子体外科手术装置、等离子体产生装置的应用以及产生等离子体的方法
336 200680030194.3 等离子体产生装置、等离子体外科手术装置以及等离子体外科手术装置的应用
337 200680030225.5 等离子体产生装置、等离子体外科手术装置以及等离子体外科手术装置的应用
338 200810086709.2 一种从废水中去除挥发性有害物的方法及装置
339 200680029637.7 处理气流的方法
340 200810045067.1 制备羟基磷灰石生物活性涂层的注入式等离子喷涂装置
341 200410021840.2 干法脉冲电晕放电烟气净化方法和装置
342 200410016926.6 碳纳米结构体转变为纳米金刚石的方法
343 200410021191.6 丝普纶及化纤织物的常压辉光放电改性应用系统与方法
344 200410021192.0 丝普纶及化纤常压辉光放电等离子体改性研究系统与方法
345 200410016646.5 一种带等离子空气净化装置的灯具
346 200410016348.6 超快脉冲X射线相衬成像装置
347 200410021241.0 一种大气压下低温等离子体制备负载型TiO₂光催化剂的方法
348 200410021460.9 薄板等离子弧焊用的紫铜垫环及其制造方法
349 02819697.X 贵金属超微粒子的超微分散水的制造方法及其装置
350 02819700.3 通过等离子水中放电的超微粒子钛的超微分散水所构成的毛发修复液及其制造方法与装置
351 01821377.4 低射束发散度的低能量射束的引出和减速
352 03129253.4 对中央空调系统进行在线连续消毒的方法及装置
353 03134546.8 用等离子体可循环降解水溶液中有机污染物的装置
354 200410057790.3 排气净化装置
355 02821609.1 使用非热等离子体放电就地杀菌和去污的体系
356 200410062308.5 等离子弧电源装置
357 200410063770.7 用多缝隙天线的表面波等离子体处理装置
358 200410045865.6 电子束加工装置
359 200410068892.5 使用混合耦合等离子体的装置
360 02811016.1 等离子体处理装置
361 200410070242.4 等离子体蚀刻方法和等离子体处理装置
362 200410033515.8 等离子切割装置及其控制装置
363 200410048125.8 半导体制造装置
364 200410078293.1 等离子体谐振腔的动态设计方法和装置
365 01818955.5 连接多个焊接设备的方法以及相应的焊接设备
366 02823322.0 在综合处理系统中用于等离子搀杂和离子注入的方法和装置
367 200410155140.2 脉冲放电等离子体诱导光催化处理有机废水方法及装置
368 200410062810.6 可调节输入气体温度的制作设备
369 02823544.4 等离子体处理装置
370 02823839.7 处理装置、气体放电抑制部件
371 200310115200.3 采用等离子体电弧技术处理废物的方法及其装置
372 200410078080.9 电子喷射装置及离子注入装置
373 03144474.1 用于清洗铁中毒的离子交换树脂的装置及其清洗方法
374 02824577.6 高频电源及其控制方法、和等离子体处理装置
375 200410072552.X 反应等离子喷涂反应室装置
376 200410064270.5 颗粒除去装置和颗粒除去方法及等离子体处理装置
377 200410078061.6 感应式热等离子体焊炬
378 02812604.1 等离子加速器装置
379 02825456.2 用于等离子沉积法处理物件的装置
380 02825739.1 用于改善晶体管性能的复合间隔区内衬
381 200310100167.7 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置
382 02826062.7 生产金钢石的装置和方法
383 02826174.7 等离子体处理装置
384 02809654.1 真空等离子体处理器及其操作方法
385 200410083879.7 硬掩模的后等离子清洁处理
386 200310106819.8 连续表面处理装置用电极架结构
387 200310106827.2 具备放热放电极的等离子空气净化装置
388 200410058299.2 用于生物和化学试剂的超高灵敏度光学检测的方法和装置
389 200310106766.X 等离子体照明装置
390 200410086830.7 静电吸附装置、等离子体处理装置及等离子体处理方法
391 02826673.0 用于等离子搀杂系统的均匀性控制
392 02826884.9 等离子体加工装置和处理装置
393 200410050548.3 一种等离子体增强甲烷选择催化还原氮氧化物的方法
394 200310105039.1 一种低温等离子体裂解天然气制乙炔装置与工艺
395 200410092288.6 表面波激发等离子体CVD系统
396 200310106232.7 等离子体偶合光催化单元组件及其构成的气体净化器
397 200410095117.9 面光源装置及具有该装置的液晶显示设备
398 200310113816.7 半导体装置钝化方法
399 200310113485.7 等离子体增强裂解有机废弃物的方法和等离子体炉
400 200410055192.2 具有多个射频源频率的等离子体腔体
401 02813070.7 用于等离子体反应器中的射频去耦和偏压控制的设备和方法
402 200310115199.4 一种同时处理多种有机废物的等离子体多级裂解工艺和装置
403 200410057166.3 具有沟道隔离结构的半导体装置及其制造方法
404 02828521.2 用于在金属和合金上形成陶瓷涂层的方法和装置及由此方法制得的涂层
405 200410065015.2 一种可用在核聚变实验装置中的锂硅复合射频壁处理工艺
406 03802961.8 在存在等离子体情形时在真空环境中的加热
407 200410101845.6 直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法
408 03805571.6 物品杀菌用装置
409 03804732.2 晶片上监测系统
410 03804805.1 等离子体表面处理方法及设备
411 03808893.2 窗型探针、等离子体监视装置及等离子体处理装置
412 03807528.8 等离子体处理装置及其隔板
413 03807747.7 ECR等离子体源和ECR等离子体装置
414 200310121117.7 一种等离子体燃煤锅炉烟气净化新工艺
415 200410098703.9 等离子体处理装置及半导体制造装置
416 200410103191.0 制造预制体的等离子体化学气相沉积装置和方法
417 200510000398.X 等离子体处理方法和等离子体装置
418 200410010570.5 接触辉光放电等离子体发生装置
419 03807354.4 通过等离子体聚合制备涂层
420 03806899.0 等离子体处理装置用电极及等离子体处理装置
421 200410093820.6 利用低温等离子体还原负载金属催化剂的方法
422 200510005692.X 成分分析方法及成分分析装置
423 200510006150.4 干蚀刻装置及干蚀刻方法
424 200510005237.X 用于雷达装置的射束路径的成形品
425 03810421.0 有害废物的处理方法及装备
426 03810265.X 生产线中的等离子体辅助处理
427 03810266.8 等离子体辅助发动机排气处理
428 03810274.9 等离子体辅助气体产生
429 03810377.X 用于最小化等离子体处理室内的电弧的装置和方法
430 03810355.9 处理装置状态或处理结果的预测方法
431 03810267.6 多个辐射源的等离子体产生和处理
432 03810275.7 等离子体催化剂
433 03810276.5 等离子体辅助消除结晶
434 03810279.X 等离子体辅助连接
435 200410102345.4 使用非平衡等离子体的气体处理方法和装置
436 200410039564.2 流光放电等离子体氧化亚硫酸盐
437 03811921.8 用于等离子涂层的多位涂层装置和方法
438 200510200009.8 纳米三氧化二锑的生产方法和装置
439 03813670.8 具有除湿器的等离子消毒器
440 03813365.2 制造光学预制件的方法和装置以及生产出的光纤
441 03813082.3 处理装置的多变量解析模型式作成方法、处理装置用的多变量解析方法、处理装置的控制装置、处理装置的控制系统
442 03813083.1 等离子体处理装置
443 200410014133.0 低温等离子体处理工业废气中H₂S和C₂S的方法
444 03814957.5 空气过滤系统
445 03814542.1 磁控等离子体处理装置
446 03815473.0 提供具有可控密度分布的带状束的离子源
447 03816209.1 等离子体处理装置
448 200410026527.8 烟气中微量氯芳烃类污染物的净化方法和装置
449 200510054822.9 真空处理装置
450 200510018418.6 等离子体谐振腔可调谐波导装置
451 200510049452.X 用于废水处理的脉冲等离子体气液放电装置
452 200510049453.4 一种用于废水处理的脉冲液相等离子体电源装置
453 03819827.4 通过置换而用于分析物检测的固体载体上的涂覆的金属表面
454 03819837.1 用于置换反应的固体载体上的涂覆的金属表面
455 200510059395.3 等离子体处理装置以及方法
456 03820977.2 用于电外科器械的探头
457 200410099728.0 室清洁或蚀刻气体再生并循环利用的方法
458 200510056532.8 用于前段工艺制造的原地干洗腔
459 200510063523.1 等离子体处理方法和等离子体处理装置
460 200510064385.9 镍粉的制造方法、镍粉的制造装置及镍粉制造用坩埚
461 200510031323.8 催化剂级超高纯三氧化二锑生产方法及其装置
462 03822817.3 接合装置及接合方法
463 02156127.3 用过氧化氢预处理的消毒方法
464 02146936.9 热合成的装置和方法
465 03146681.8 等离子体处理装置和可变阻抗装置的校正方法
466 03127672.5 微波等离子体炬全谱仪
467 01818852.4 常压等离子处理方法及其装置
468 03138792.6 制备乙炔和炭黑的方法及装置
469 03138796.9 煤与甲烷共热解的方法及装置
470 02132282.1 等离子体处理装置以及等离子体处理方法
471 02130671.0 从羊毛织物上去除疏水酯类的方法
472 03122741.4 垃圾焚烧发电熔融炉吸附制冷尾气净化装置
473 03146075.5 感应耦合等离子体处理装置
474 01820053.2 用于等离子体限定的晶片区域压力控制
475 01820984.X 将试剂延期注入等离子体的注射器和方法
476 01821493.2 活化水装置和方法
477 01807390.5 感应耦合的等离子体腐蚀装置
478 03157394.0 一种利用等离子体技术的光纤预制棒加工设备
479 03156626.X Si蚀刻方法及蚀刻装置
480 02137351.5 污泥的热解处理方法及其设备
481 03130562.8 等离子弧焊接熔深的检测方法及其装置
482 02804986.1 用于对透平叶片进行等离子喷镀的方法和喷镀装置
483 02804913.6 一种光学效用层系统的制造方法和装置
484 02804879.2 用于在大气压下产生低温等离子体的装置
485 01816687.3 晶片区域的压力控制
486 02803497.X 等离子体装置及等离子体生成方法
487 200310104328.X 基板处理装置
488 03104125.6 产生气体等离子体的方法和装置及制造半导体器件的方法
489 03147073.4 匹配箱、使用匹配箱的真空装置及真空处理方法
490 03140988.1 化学气相沉积涂涂料设备
491 200310101512.9 等离子处理装置
492 03127235.5 等离子体掺杂方法及等离子体掺杂装置
493 02807326.6 微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法
494 02151299.X 无介质低温等离子体加工食物装置
495 200310100603.0 气体净化系统、气体净化方法和放电反应设备
496 200310120406.5 用于在干刻蚀期间防止晶片边缘损坏的装置
497 02153126.9 无电极照明器具的电灯装置
498 200310103871.8 等离子体处理装置和等离子体处理方法
499 200310118222.5 等离子体处理方法及等离子体处理装置
500 200310119584.6 电路装置的制造方法
501 02151465.8 等离子体处理装置
502 02809185.X 采用较佳射频回路的等离子体密封
503 03132667.6 感应耦合天线以及使用该天线的等离子体处理装置
504 02158765.5 掠入射平场谱仪
505 02160209.3 铝合金缸体内壁陶瓷涂层的等离子体电解沉积方法及装置
506 02811125.7 包含富勒伦斯的碳黑、制造方法和装置
507 02810605.9 基板台及其制造方法以及等离子体处理装置
508 200410002404.0 粉末等离子焊接装置与焊接方法
509 200410000316.7 等离子体处理装置及聚焦环
510 03103254.0 电磁式海水淡化装置
511 02804631.5 喷墨打印头中喷嘴结构的保护
512 02812687.4 二氧化钛纳米粉体的等离子体合成以及粉体掺杂和表面改性方法
513 03111308.7 一种微型三轴姿态控制装置及制作
514 03105058.1 一种管状工件内表面改性的方法及其专用装置
515 03119847.3 半导体处理装置的控制方法
516 200410006449.5 一种用化合物半导体制造光发射装置的方法
517 200410032114.0 晶片处理方法
518 03105270.3 等离子体裂解燃烧器
519 03106734.4 等离子体处理装置及等离子体处理方法
520 03800685.5 等离子体处理装置
521 02807275.8 在等离子室中包围半导体工件的导电挡圈
522 02123597.X 等离子跟踪定尺飞锯
523 01817505.8 清除内燃机废气中的NO_x的工艺方法和装置
524 01817491.4 用于产生等离子体的设备及离子化过程和其应用
525 200410034708.5 等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置
526 200410002415.9 形成半导体装置的金属线的方法
527 200410030234.7 等离子体处理装置和高频电力供给装置
528 02803904.1 等离子体装置及等离子体生成方法
529 02815423.1 用于对物体进行涂层的装置
530 200410031532.8 电光装置的制造方法、电光装置、电子设备
531 02810693.8 在大气压下产生的浓等离子体对处理气体排放物的应用
532 02816213.7 等离子体装置
533 200310110983.6 一种探测飞行器的新方法
534 01823586.7 利用等离子体去除衬底上涂布的有机对准层并恢复衬底的方法
535 02816257.9 等离子体反应器线圈磁体系统
536 200310105212.8 室温下直接合成过氧化氢用于丙烯环氧化的装置和方法
537 03129848.6 电冰箱用等离子体空气净化/除臭装置
538 200410015948.0 滑动弧放电等离子体有机废水处理装置
539 03123574.3 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置
540 200410059530.X 生产可纺的合成纱的装置
541 200410038016.8 处理装置
542 200410038015.3 上部电极和等离子体处理装置
543 02818102.6 使用非热放电等离子体的化学处理
544 02818626.5 等离子体处理装置用石英部件的加工方法、等离子体处理装置用石英部件和安装有等离子体处理装置用石英部件的等离子体处理装置
545 02818918.3 产生等离子体的方法和装置
546 02817870.X 用于确定实时蚀刻速率的浅角干涉工艺及装置
547 200480017370.0 放电后等离子体消毒设备和方法
548 200480017236.0 一种制备金属镀覆钢产品的方法和设备
549 200510002966.X 电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置
550 200510112238.4 空气中激光等离子体通道寿命的测量装置及其测量方法
551 200610003231.3 限界等离子体和增强流动导通性的方法和装置
552 200480019139.5 窄隙电容耦合反应器的射频脉冲调制
553 200610018531.9 交流等离子矿热炉装置
554 03826930.9 产生极端紫外辐射或软X射线辐射的方法及装置
555 200610008225.7 等离子体处理装置及其部件和部件的寿命检测方法
556 200610009792.4 可应用于恶劣环境下的高性能光电位置控制装置
557 200610008302.9 等离子体产生装置
558 200510076915.1 一种植物改性方法
559 200510037777.6 等离子体引发乙烯基单体聚合的方法
560 03823015.1 具有电弧处理能力的高峰值功率等离子体脉冲电源
561 03822579.4 用于产生均匀的处理速率的方法和设备
562 200510067603.4 包含富勒伦斯的碳黑、制造方法和装置
563 200510067931.4 基板清洗装置和基板清洗方法
564 200380100574.6 等离子体处理装置
565 200510020767.1 B超探头消毒机
566 200510070127.1 等离子体处理装置和等离子体处理方法
567 200510011372.5 一种用于实现大气压下空气中均匀辉光放电的方法
568 03825001.2 用于对金属连铸坯进行去氧化皮和/或清洗的方法和装置
569 200510046045.3 具有旋转螺旋状电极的大气压辉光放电等离子体反应器
570 200510072904.6 用于对透平叶片进行等离子喷镀的方法和喷镀装置
571 200510074942.5 小型电容耦合等离子反应器/生成器及方法
572 200510074943.X 小型电容耦合等离子反应器/生成器及方法
573 200480001115.7 等离子体处理装置、生成等离子体反应容器的制造方法及等离子体处理方法
574 200510073921.1 等离子焊枪的寿命检测装置
575 200410042608.7 带有负压换风消毒系统的病房
576 200510073552.6 等离子体处理装置和阻抗调整方法
577 200510011971.7 基于等离子波的纳米光刻光学装置
578 200410060041.6 功率二极管制备方法及其装置
579 200380104292.3 等离子体处理装置和方法
580 200380104293.8 等离子体处理装置和方法以及等离子体处理装置的电极板
581 200380104493.3 低温处理钝化应用的方法
582 200380104685.4 以大气压力等离子体处理衬底表面的装置
583 200510084674.5 等离子处理装置与等离子处理的光检测方法
584 200480001976.5 高密度等离子体半导体处理中的冷式沉积用挡板
585 200380106022.6 等离子反应器和其中使用的电极板
586 200380106117.8 等离子体生成装置、等离子体控制方法和基板制造方法
587 200410020111.5 微波等离子照明装置
588 200510037714.0 托卡马克装置中晕电流的测量方法及装置
589 200510059135.6 等离子体放电开关、电流驱动装置和有机发光装置
590 200510092801.6 等离子体加工装置
591 200510056530.9 高产量等离子体处理室
592 200380104408.3 用于加工晶圆的方法和设备及包括分离层和支持层的晶圆
593 200480002531.9 等离子体处理装置和等离子体处理方法
594 200510047357.6 等离子零坡口切割设备及方法
595 200380109518.9 金属氧化物纳米粉末的等离子体合成及其装置
596 200480003020.9 耐蚀部件及其制备方法
597 200380109578.0 用作活性表面增强拉曼光谱术(SERS)基质的涂覆有金属的纳米晶硅
598 200480003417.8 等离子体处理装置和等离子体处理装置用的电极板和电极板制造方法
599 200510103661.8 用于控制等离子体体积的方法和设备
600 200480003832.3 使用光激发表面等离子体的频率变换装置及方法
601 200510030409.9 微孔相转换装置
602 200510109717.0 表面放电型空气净化装置
603 200380104608.9 等离子体辅助熔炼
604 200480004634.9 杂质导入方法
605 200480004782.0 等离子加工装置
606 200510010489.1 一种实现等离子体升温注渗的方法及其装置
607 03801713.X 等离子处理装置
608 200510090328.8 基板搬送装置和配置有这种基板搬送装置的真空处理装置
609 200380110083.X 一种管状工件内表面改性的方法及其专用装置
610 200480006180.9 等离子加工装置和方法
611 200480007523.3 衬底处理装置和器件的制造方法
612 200410050622.1 等离子模块的风扇控制装置
613 200510118108.1 受激准分子灯点灯装置及受激准分子灯点灯方法
614 200480008944.8 用于增强的纳米-光谱扫描的方法和装置
615 200510074095.2 用于溅射一个可旋转靶管的阴极装置
616 200510113261.5 与等离子体腔室连接的固定的阻抗变换网络的装置和方法
617 200510048154.9 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺
618 200510123269.X 聚焦环、等离子体蚀刻装置及等离子体蚀刻方法
619 200510125306.0 等离子电极构造、等离子源及利用它的等离子处理装置
620 200510095594.X 产生低温等离子体的电晕耦合介质阻挡放电装置
621 200510021797.4 有机包覆金属纳米粉末的制备方法及其装置
622 02152733.4 在隔板之间形成搭接的自动脉冲等离子体焊接方法和装置
623 200410084267.X 一种高密度等离子体化学气象沉淀装置
624 200510103815.3 基板处理装置
625 200510127554.9 电容耦合型等离子体处理装置
626 200510127676.8 等离子体处理装置
627 200510100980.3 微波辅助的等离子体催化空气净化方法及净化装置
628 200510095550.7 固定流化床粉体计量分配输送装置及实现高稳定输送与分配粉体的方法
629 200510117786.6 基板处理装置用部件及其制造方法
630 200480013795.4 级联源以及用于控制级联源的方法
631 200510136817.2 常压冷等离子体纳米陶瓷粉体制备设备和方法
632 200510129428.7 等离子体装置
633 200580000289.6 真空灭菌工艺和装置
634 200510137842.2 过电压保护装置
635 200480014835.7 等离子体均匀性
636 200480015532.7 排气净化装置
637 200480015920.5 高频等离子体射束源及喷射表面的方法
638 200480016876.X 用于内诊镜或导液管的电手术器械
639 200480016841.6 清洗和消毒探针、插管、针具、吸管和喷嘴的表面的大气压力非热等离子区设备
640 200610050020.5 研究直流辉光等离子体的实验装置
641 200510008776.9 电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置
642 200610001492.1 基板处理装置和基板处理方法
643 200480020800.4 等离子处理装置和电极结构
644 200610007747.5 F密度测量方法、等离子体处理方法和等离子体处理装置
645 200610007746.0 气体供给部件和等离子体处理装置
646 200480022185.0 强粘性涂料的生产方法
647 200610043602.0 等离子体灭菌装置过氧化氢加注系统
648 200610057728.3 温度控制系统和基板处理装置
649 200510011398.X 一种同轴型低温等离子体物料处理器
650 200510118728.5 等离子装置和通过其制造光纤预制件的装置
651 200480022366.3 利用水中等离子体放电的离子化水供应装置
652 200480022737.8 等离子处理方法以及装置
653 200610024299.X 电离型气体净化装置
654 200610018568.1 可调谐等离子体谐振腔
655 200480023026.2 气体处理装置
656 200480023150.9 在基质上涂敷涂层的方法和装置
657 200510013244.4 海水与卤水综合利用研究——从海水淡化到饱和卤水制碱
658 200610058370.6 等离子体处理装置
659 200610007667.X 等离子体处理装置
660 200610066499.1 等离子体处理装置和等离子体处理方法
661 200610067101.6 等离子体处理装置和等离子体处理方法
662 200610073360.X 等离子体处理装置
663 200580000868.0 空气净化装置
664 200580000929.3 纯化含有氢化合物的四氯化硅或四氯化锗的方法和装置
665 200610010001.X 细长管筒内表面中空阴极等离子体表面处理装置及方法
666 200610010003.9 焊接电弧温度与成分分布测量用成像装置
667 200610009999.1 磁场辅助的自辉光等离子体离子注入装置
668 200510130652.8 气流分布均匀的刻蚀装置
669 200610072619.9 制造有机发光器件的方法
670 200510126356.0 一种提高进气均匀性的进气装置
671 200610040635.X 特殊的超导托卡马克核聚变装置真空室的窗口颈管结构
672 200510126283.5 一种可调整局部耦合强度的ICP线圈
673 200510126268.0 等离子体反应室温控系统在线故障检测装置及其方法
674 200510126337.8 等离子体刻蚀装置
675 200510126354.1 等离子体刻蚀装置排气环
676 200510126373.4 一种用于半导体处理的反应室
677 200510126339.7 一种感应耦合等离子体线圈的包装装置
678 200510126341.4 等离子体刻蚀装置
679 200480026573.6 反应条件传感器
680 200480026697.4 用于改良的电极板的方法和设备
681 200610018569.6 可调谐等离子体谐振腔
682 200610027139.0 激光脉宽控制方法和装置
683 200480027673.0 立体涡流的制造方法、制造设备及立体涡流飞行器
684 200480027331.9 避免射频等离子加工中的不稳定性的方法和装置
685 200510121692.6 等离子体激发系统
686 200480030236.4 树脂的制备
687 200480030596.4 颗粒的官能化
688 200510126272.7 一种气体温度可控的等离子体刻蚀装置
689 200510126293.9 一种提高刻蚀均匀性等离子体刻蚀装置
690 200510126304.3 等离子体刻蚀装置
691 200510126346.7 等离子体反应装置
692 200510064592.4 一种电感耦合等离子体装置
693 200510065762.0 一种紫外线检测装置
694 200610009793.9 可在恶劣环境下工作的气体工作介质转换装置
695 200610065521.0 等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法
696 200480025713.8 具有直线性的等离子体出口的ECR等离子体源
697 200480021684.8 具有动态温度控制的基片支架
698 200480026169.9 等离子体处理装置和灰化方法
699 200480031010.6 用于凝结组织的装置
700 200610082631.8 等离子体处理室、电位控制装置、方法、程序和存储介质
701 200480032426.X 用于优化等离子体处理系统中的基板的方法和设备
702 200480032469.8 等离子体处理装置
703 200610047123.6 等离子体活塞环表面的强韧化处理方法
704 200610087980.9 离子源
705 200510022847.0 间隙检测装置
706 200510013782.3 等离子照明器件的初始放电激发装置
707 200610084697.0 等离子体处理装置
708 200480033664.2 用于分配饮用的液体产品的方法和装置
709 200480034046.X 高温炉
710 200610081583.0 内燃机废气电气体发电及等离子体化学反应制氢方法
711 200480034853.1 等离子体显屏的多层烧成装置
712 200480034639.6 用于现场衬底温度监控的方法和设备
713 200510014267.7 等离子聚合装备的防电极碳化装置
714 200480036347.6 经处理以清除自由碳的半导体衬底加工装置的碳化硅部件
715 200480036050.X 激光切割的方法和装置
716 200610047122.1 介质阻挡放电等离子体活性炭原位再生方法及装置
717 200610047259.7 丙烯和分子氧直接氧化制备丙醛的装置
718 200610105750.0 提高PVD反应器中的等离子体活度的装置
719 200610200189.4 一种电晕放电低温等离子体织物表面改性处理装置
720 200610010244.3 多阴极脉冲弧等离子体源装置
721 200610002906.2 半导体装置以及形成一半导体结构的方法
722 200610151339.7 具有可互换电极系统的等离子体焰炬
723 200510082813.0 超导腔的干式处理方法
724 200610057675.5 室隔离阀RF接地
725 200480037117.1 用于在离子植入中延长设备正常运行时间的方法及装置
726 200510014644.7 等离子体照明装置
727 200510014678.6 微波等离子照明装置
728 200510028567.0 等离子体处理装置
729 200580002005.7 先进的多压力工件加工
730 200580002187.8 用于等离子体反应器的气体分布板组件
731 200610115467.6 感应耦合等离子体对准装置及方法
732 200580003402.6 基板处理装置的处理室净化方法、基板处理装置和基板处理方法
733 200610086182.4 冷等离子体种子处理仪
734 200610028018.8 一种双等离子体处理工业废气的方法与装置
735 200510014756.2 微波硫灯的照明装置
736 200580005015.6 包含氟化合物的气流的处理方法和装置
737 200610041274.0 低温等离子体光催化空气净化装置
738 200580005315.4 用于等离子体处理的装置
739 200510135658.4 等离子增强化学气相沉积装置
740 200610086277.6 TOKMAK放电低杂波功率模式控制方法
741 200510093733.5 电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置
742 200610151468.6 高亮度放电灯和使用该高亮度放电灯的照射装置
743 200610093138.6 电极组件和等离子体处理装置
744 200610068995.0 气液混合放电降解水中有机污染物的方法和装置
745 200610126935.X 在衬底沉积装置中使用高频扼流器的装置和方法
746 200610086278.0 等离子体快速激发开关
747 200610047775.X 针阵列电极双极电晕放电捕集高温碳烟装置
748 200610096902.5 托卡马克低杂波天线阵入口相位的测量装置和鉴相方法
749 200510105647.1 超声气体或团簇注入器
750 200610159359.9 等离子体处理室
751 200680000112.0 等离子处理装置
752 200510030576.3 等离子体处理装置
753 200610160506.4 制备高纯度自由流动的金属氧化物粉末的方法
754 200580015945.X 清洗衬底表面的方法
755 200610068994.6 气液串联放电降解水中有机污染物的方法和装置
756 200610140074.0 在等离子体反应装置中以均匀温度冷却晶片支撑的方法
757 200580018639.1 用于氩等离子体凝固术的装置
758 200580020010.0 EUV光源、EUV曝光装置及半导体元件的制造方法
759 200580019172.2 等离子体处理装置
760 200610162519.5 放电灯点灯装置
761 200480009880.3 用于等离子体约束的系统和方法
762 200580020518.0 等离子体处理装置和方法
763 200610141848.1 载置台、基板处理装置、等离子体处理装置及其控制方法
764 200580022125.3 减少时分复用蚀刻工艺中纵横比相关蚀刻的方法和装置
765 200510132020.5 等离子体反应器和包括该反应器的减少车辆废气的装置
766 200580022253.8 制备含有分子氟的气体或气体混合物的方法
767 200610137550.3 基板处理装置和该装置的盖吊支装置
768 200710004237.7 等离子体处理装置和方法
769 200610166777.0 有机发光装置及其制造方法
770 200710004236.2 等离子体处理装置和方法
771 200610173257.2 等离子体处理方法以及等离子体装置
772 200510003377.3 等离子放电装置及其应用方法
773 200580021487.0 等离子切割装置
774 200580026757.7 半导体装置的制造方法和等离子体氧化处理方法
775 200610155809.7 离子液体催化等离子体甲烷转化制C₂烃的方法
776 200610095365.2 用于表面等离子共振生物传感器的高精度扫描成像装置
777 200580021153.3 复合热切割装置及复合热切割方法
778 200580027088.5 等离子体处理系统中最佳温度控制的方法和设备
779 200710056428.8 一种静电高压抑制清除装置
780 200610137549.0 等离子体处理装置和等离子体处理方法
781 200680000657.1 等离子体处理装置
782 200610127801.X 限界等离子体和增强流动导通性的方法和装置
783 200710000842.7 使用耦合表面等离子体的表面等离子体共振生物传感器
784 200580029854.1 等离子体处理装置
785 200580029122.2 氧化硅膜的形成方法、半导体装置的制造方法及计算机存储介质
786 200610125569.6 硅粉表面刻蚀装置
787 200610102333.0 一种产生具有三种折射率的等离子体光子晶体的方法
788 200610146366.5 等离子体化学气相沉积装置及等离子体表面处理方法
789 200710010674.X 丙烷和分子氧直接氧化制备环氧丙烷的装置
790 200710020600.4 差分馈电介质阻挡放电低温等离子体装置
791 200580031296.2 等离子体处理装置和等离子体处理方法
792 200710078712.5 用于移除紧固件的方法和装置
793 200710019292.3 光催化协同等离子体作用的一体式机动车尾气净化装置
794 200710051240.4 含水乙醇制备富氢混合气的方法及其等离子体重整器
795 200610099440.2 等离子体蚀刻的装置与方法
796 200710084478.7 等离子体处理装置
797 200710010884.9 大气压冷等离子体低温合成锐钛矿相纳米二氧化钛粉体的方法
798 200710010843.X 氢等离子体条件下丙烷脱氢制备丙烯的装置
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