等离子 发明专利 1993 项
序号 专利号 名称
1 02143319.4 制作基极介电层的方法
2 02130218.9 用于离子植入制程的光阻层的去除方法
3 02137467.8 一种放射性密封种子源外壳焊封工艺
4 02139197.1 一种高沉积速率PCVD工艺制作光纤芯棒的方法
5 01128856.6 一种钛铁矿的分离方法
6 02131978.2 高密度等离子体化学汽相淀积设备
7 02122452.8 一种带有导热套管的RF探头
8 01130917.2 去除高密度等离子体介电层缺陷的方法
9 01804735.1 常压等离子体系统
10 01115197.8 金属表面熔覆涂层特别是梯度涂层的方法
11 02127333.2 半透明反射镜膜的形成方法以及具有半透明反射镜膜的光学元件
12 01124179.9 氧化钛层的制造方法
13 02128295.1 应用于约束等离子体反应室的半导体双镶嵌蚀刻制作过程
14 01124118.7 等离子体蚀刻气体
15 01130555.X 密集波分复用滤波器沉积系统
16 01133186.0 一种改善有机低介电常数层附着力的表面处理方法
17 01131244.0 常压下制备细粉-超细粉的方法及其专用设备
18 02116163.1 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示方法
19 00817251.X 焊接评估
20 00817448.2 清洗和调理等离子体反应腔体的方法
21 01806083.8 基体涂覆方法和装置
22 01141502.9 同时具有超双亲/超双疏复合功能的织物处理方法
23 02144050.6 无残留物双层微影方法
24 02107705.3 无电极照明系统
25 01126990.1 基因芯片联合处理系统及相关技术
26 00817729.5 等离子体反应器电极的制造方法及这种电极
27 01136692.3 蚀刻反应室动态微尘污染状态检测方法
28 00818168.3 测定物体中材料成分的方法
29 00818169.1 电化电池的锂阳极
30 02102379.4 制造具有浅结的集成电路的方法
31 02159260.8 大气压介质阻挡放电等离子体枪
32 01804804.8 碳氟化合物原料的处理
33 01806380.2 等离子聚合系统和等离子聚合方法
34 01806266.0 量子阱混合
35 02136017.0 低温易烧结的纳米级氧化锌粉末的制备方法
36 02141087.9 具有改进的白色点的等离子体图像屏幕
37 00815810.X 带有改进脉冲功率系统的等离子聚集光源
38 02156592.9 激光-电弧复合脉冲协调控制焊接方法
39 02160609.9 离子源
40 01807607.6 镜片输送方法和设备
41 01807698.X 带有改进的灯体冷却系统的微波激励的紫外线灯系统
42 02152425.4 具有双栅极氧化物层的半导体器件的制造方法
43 00818382.1 具有动态气体分布控制的等离子体加工系统
44 02157748.X 一种磁记录盘玻璃基片离子交换表面增强方法
45 01142654.3 基因芯片分子探针及相关技术
46 02152746.6 用于金属工件热处理炉的电加热方法
47 02100881.7 多尖端的多个圆盘旋转电极的等离子体放电反应器
48 01118721.2 一种微波激励甲烷转化制氢工艺
49 01118722.0 一种微波激励甲烷转化制C₂烃工艺
50 01129522.8 从米糠(麸皮)中提取肌醇的方法
51 02124812.5 并联谐振旋涡天线
52 01803460.8 用于半导体蚀刻室的内衬
53 02123912.6 一种用烃氧基取代乙酸为萃取剂分离高纯钇的工艺
54 02112311.X 射频等离子体分子束外延生长氮化镓的双缓冲层工艺
55 01803817.4 可重结晶的玻璃作为等离子体面板电极浆糊的矿物粘合剂的应用
56 02138758.3 石英光纤芯棒的制备方法
57 02112151.6 一种干法去除硅化物形成过程中多余金属的方法
58 01120411.7 浅沟渠隔离结构的制造方法
59 01120412.5 浅沟渠隔离结构的制造方法
60 01804663.0 通过等离子体活化接枝生产强粘附性表面涂层的方法
61 01804759.9 碳氟化合物原料的处理
62 01802441.6 抗蚀剂抗反射涂层组合物
63 02128420.2 一种裂解烃类生产碳黑和氢气的方法和装置
64 02105719.2 荧光体的制造方法
65 01123712.0 快擦写存储单元浮置栅极的制造方法
66 01143894.0 双层硅碳化合物阻障层
67 01809396.5 调整等离子体加工系统中电极厚度的方法
68 01809937.8 通过中性流束的碰撞产生超紫外线的光源
69 02100950.3 通过回流从较低层除去构图层的方法
70 01810545.9 小型离子分解型熔融炉
71 02127413.4 无电极照明系统及其照明灯
72 01810768.0 高温不锈钢涂覆系统
73 02100191.X 反焊双圆套超薄与厚结构
74 02100729.2 真空等离子渗硫方法
75 02160511.4 一种光刻仪及其器件制造方法
76 02102710.2 以软性含氮等离子体来形成超薄栅介电层的方法
77 00818965.X 改善了抗微裂纹性能的叠层制品及其制造方法
78 00819168.9 除去剩余光致抗蚀剂和残留侧壁钝化物的原位后蚀刻方法
79 03113046.1 激光诱导制备尺寸可控高密度纳米硅量子点列阵
80 02103423.0 有机底部抗反射涂布层的蚀刻方法
81 03104233.3 氮化镓类化合物半导体等的干法刻蚀方法
82 02110167.1 真空等离子束表面熔覆耐磨蚀涂层的方法
83 03110796.6 射频等离子体处理方法和射频等离子体处理系统
84 03111418.0 双极性脉冲放电水处理方法
85 03111918.2 用离子注入和退火制备铌酸锂晶体波导的方法
86 03113077.1 纵向分布式表面等离子体波传感器
87 02104780.4 多晶硅间介电层的制造方法
88 01813566.8 具有直立室的等离子体聚合连续处理设备
89 01812620.0 碳纤维前体纤维束及其制造方法
90 01812516.6 刻蚀半导体结构中的钨或氮化钨栅极的方法
91 02113175.9 万能电动自爬式割管机
92 02120875.1 织物易去污处理方法
93 02122345.9 超薄氮化硅/氧化硅栅极介电层的制造方法
94 03131595.X 用于柴油机催化氧化净化器的基体
95 03147877.8 蛋白质微阵列表面等离子体共振成像检测系统及检测方法
96 03136854.9 离子源、操作离子源的方法、以及离子源系统
97 03138145.6 染色的不粘结角蛋白纤维及其制备
98 02120229.X 分离栅极快闪存储单元的复晶硅间隙壁的制造方法
99 02117711.2 钛合金表面抗氧化的铝-铜-铁-铬准晶涂层的制备
100 03142913.0 具有冷凝体贮存器的电灯及其工作方法
101 03122450.4 制造用于纳米压印光刻的亚光刻尺寸线和间隔图案的方法
102 02142185.4 等离子处理方法和装置
103 01815651.7 硅高速腐蚀方法
104 02128536.5 一种用以评估等离子体天线效应的高灵敏度测试结构
105 02143321.6 减少反应室杂质含量的方法
106 02107943.9 减少废气排放量的蚀刻方法
107 02147324.2 电镀金属退火的方法
108 03114694.5 空心阴极中心轴向送粉等离子喷涂枪
109 02127314.6 形成阻障层的方法
110 03109545.3 等离子加工方法和设备及用于等离子加工的托架
111 01814891.3 用于有机硅酸盐玻璃的低K蚀刻应用中的蚀刻后由氢进行的光刻胶剥离
112 01814209.5 脉冲电压在等离子体反应堆中的应用
113 01813736.9 "通过等离子体沉积的、包括一个界面层的封隔涂层,以及得到这种涂层的方法和有这样涂层的容器"
114 01813728.8 等离子涂层方法
115 01813731.8 封隔涂层
116 02802167.3 用于等离子手术的方法和器械
117 01123721.X 防止氮化物内存晶胞被充电的制造方法及其装置
118 97103036.7 荧光体及其制造方法
119 94193291.5 对背面照明的改进以及与之有关的改进
120 95191718.8 利用激光在基体上制备金刚石、类金刚石碳以及其它材料的涂层
121 96108403.0 高速去胶法
122 95192087.1 生产立方体形的氮化硼涂层的工艺
123 96106512.5 酸化沉淀法处理含氰废水工艺
124 95104401.X 等离子涂层连续焊条
125 95116918.1 内燃机气门
126 95192288.2 稳定非晶硅及含稳定非晶硅的器件
127 96190233.7 带有蚀刻电极的等离子体寻址液晶显示器
128 95193227.6 刀片的非晶态金刚石涂层
129 96111663.3 多晶硅表面金属杂质的清除
130 96110303.5 等离子处理方法及设备
131 96111009.0 关于分析半导体器件失效的剥层处理方法
132 96110203.9 基于稀土磷酸盐的化合物用作等离子体系统中的发光体
133 96110503.8 等离子体发生器的起弧增强电路
134 95118301.X 等离子切割电源
135 95118477.6 逆变器
136 96120181.9 制作金属线的方法
137 95109588.9 磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层
138 96122849.0 杂质的导入方法及其装置和半导体器件的制造方法
139 96112578.0 微波-热等离子体处理含钴氧化矿
140 96100815.6 植物生长调节剂
141 96121019.2 用于亚微米超大规模集成电路的金属间介质平面化
142 96101197.1 集成电路中介电层的制造方法
143 96106901.5 等离子体探头探测用的折叠取样器
144 96117974.0 电弧焊和弧光等离子体切割机
145 96114219.7 多组份解谱分析法
146 96118594.5 伪火花开关
147 97100677.6 天然气电场增强等离子催化合成碳二烃
148 97100166.9 一种油田钻井采油用易损件表面改性技术
149 96123921.2 一种制造半导体器件的方法
150 97100727.6 镧钨电极的制造方法
151 97102208.9 带有相位错开的二次开关的等离子体切割或电弧焊接电源
152 96191221.9 无衬标签的割断机构
153 97103976.3 导电体连线的制造方法
154 97110548.0 等离子体源
155 97113003.5 使外科用针钝化的方法
156 95196415.1 化学改性含有烷基的固体的方法
157 85106696 轻合金车轮的制造方法
158 85109647 带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法
159 86101470 用于熔敷耐磨表层材料的焊接设备及其方法和其上具有焊道的基底
160 86101111 低温等离子体的化学检测方法
161 85103350 低空载电压的弧悍电源
162 86103851 向炉内例如熔炼用高炉内喷射散状固体物料的装置及其应用
163 85104273 湿敏元件及其制造法
164 85101843 电绝缘层
165 85102146 用空心预制件制造固体玻璃预制件的方法
166 85105483 可控制接通的硅可控整流器
167 86103233 利用氟化气体混合物进行硅的等离子体蚀刻
168 86105616 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
169 85108954 具有堆焊耐磨层金属筛板制作方法
170 87101648 球形化钽粉及其制取工艺
171 86101100 恒功率微束等离子弧焊机
172 86102453 无碱无水棉花及其制品的脱脂加工方法
173 86103650 微波等离子体离子化检测器
174 87104235 可调节阴极的等离子枪
175 87106857 一种高速钢复合样板刀具的制作方法
176 87103025 应用激光、磁压缩、反射的受控核聚变方案
177 87103361 用于等离子体枪的气体分配环
178 86107877 金属合金化学分析试样快速溶解设备的改进
179 87105937 半导体直接键合的表面处理方法
180 88100549 阴极电弧源离子渗金属技术及设备
181 86102538 一种等离子阳极化方法
182 87103736 接触式等离子割炬
183 87104483 一种用等离子弧精炼硅的工艺方法
184 88103828.8 用四氮化三硅涂层制造太阳电池的方法
185 88103230.1 微波脱硫等离子体冶炼高冰镍
186 87105085.4 一种耐蚀电接点及其制造方法
187 87104358.0 锯切工具离子渗金属技术
188 88100221.6 氮等离子弧表面淬火工艺
189 88106266.9 金的回收方法
190 88104185.8 复合式分子泵
191 88102665.4 单电源等离子一熔化极气保护焊接方法
192 89104090.0 提高烃类和/或其衍生物分子量的方法
193 89103436.6 电气器件及其制造方法
194 89106738.8 制造矿物棉的方法和装置
195 89106675.6 电气器件及其利用等离子体加工的制造方法
196 89105527.4 销毁有毒废物的方法和等离子体化学反应器
197 89106602.0 用于喷镀狭槽的等离子喷枪延伸部
198 89105657.2 等离子割炬
199 89108297.2 用等离子体技术提高纸张表面强度
200 89108295.6 一种改性胶片的制备
201 89102926.5 双尖角磁场再压缩等离子弧焊接技术
202 89103313.0 水等离子弧切割
203 89106259.9 微束等离子弧特种焊机
204 90108281.3 用于晶体生长的碳化硅表面的制备方法
205 90108784.X 具有伸长的下喷嘴件的等离子弧切割焊枪
206 90101614.4 等离子体处理纸浆废液回收化学物质的新方法
207 90102213.6 氩等离子弧对2铬13表面淬火工艺
208 90107140.4 用于等离子弧焊枪的电极
209 89109605.1 列阵柱面透镜线聚焦系统
210 89109527.6 生铁固态脱碳和电炉重熔生产工业纯铁
211 89109503.9 双尖角磁场再压缩等离子弧切割
212 90108907.9 具有加长喷嘴的等离子弧焊枪
213 91103167.7 成像光谱仪
214 90107816.6 将有害物变成惰性固体的系统和方法
215 91101937.5 一种仿玉美工品的制作方法
216 91104486.8 传递电弧的等离子燃烧器
217 90103023.6 一种处理氧化镍矿的新方法
218 91103226.6 加热方法和装置
219 91106244.0 波纹管加工方法及设备
220 90102917.3 金属蒸气激光器放电管
221 90109168.5 发生和点燃等离子体的方法和装置
222 90109463.3 增强氘聚变/衰变率的方法
223 92108337.8 光晶体管
224 91101989.8 新型非真空电子束焊接方法及焊炬
225 92104302.3 以金属锭形式浇铸电弧熔炼的金属材料的方法和设备
226 91103719.5 植物种子的处理方法
227 92106427.6 一次性使用注射针基座处理方法
228 91105060.4 真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘
229 92110044.2 具有改进型喷嘴组件的等离子电弧切割器
230 92107797.1 超小逆变节能型空气等离子切割机
231 92115163.2 烃类的分解方法
232 93105102.9 果木花卉多效复合肥
233 92115380.5 用于烃类分解的方法
234 92106470.5 离子交换树脂变浓度再生方法
235 92115318.X 一种用于化学过程的炬装置
236 92115187.X 化学加工用炬装置
237 93111867.0 水处理用无机复合絮凝剂及其制备方法
238 93106788.X α－氧化铝
239 92108460.9 保护铱坩埚生长掺四价铬高温氧化物晶体的方法
240 93104562.2 等离子体喷管中的电极损耗
241 93112537.5 一种从石墨或含碳固体物制备金刚石的方法
242 92108274.6 复合人工颌骨及其制作方法
243 92107118.3 电流控制型直流变换器
244 92108539.7 低压引弧等离子割炬
245 93112584.7 三相电源等离子体相序指示器
246 93109705.3 压力可控制的等离子切焊枪具
247 93116583.0 电弧焊机与等离子切割机
248 93105484.2 分解反应器
249 93114068.4 等离子体加热盛钢容器液面检测方法
250 93119559.4 干法助焊的方法和设备
251 93110402.5 增强型截控直流变换器
252 93120818.1 半导体器件及其制造方法
253 93102963.5 无极等离体喷射装置和离解有害废料的方法
254 93114932.0 高营养、高疗效、易吸收的新型钙剂——纳米钙(钙王)
255 93119959.X 用于烃类高温分解的方法和装置
256 94103083.0 激励原子束源
257 93109966.8 一种等离子炬
258 93118996.9 金属陶瓷制品及其应用
259 94115077.1 一种纳米级导电纤维的制备方法
260 93112582.0 一种生产硅太阳电池的方法及相关的设备
261 94116588.4 机械部件以及在其上形成涂层的方法
262 94109323.9 电气放电处理粒料用的反应器和方法
263 94117374.7 一种提高热障碍陶瓷涂层性能的方法
264 94110021.9 硼镁矿及富硼渣直接冶炼铁基非晶态母合金的方法
265 94115079.8 纳米铜锌合金催化剂的制备方法
266 93114575.9 低氢过电位活性阴极及其制备方法
267 94110112.6 微波加热激发低温等离子体方法
268 94120758.7 形成淀积膜的方法和设备
269 93112561.8 高性能微晶稀土永磁体的制造方法
270 95103566.5 半导体器件制作工艺
271 94110655.1 空气等离子体切割机耐高温抗氧化电极
272 94192847.0 用电子辐照改质燃料的方法
273 95106916.0 金刚石圆锯片基体再生处理方法
274 95106134.8 玻璃织物的表面处理方法
275 94115528.5 钢中单-稀土固溶量直接测定法
276 94113127.0 等离子涂层连续焊条的制造方法
277 95105743.X 带防护涂层的硅橡胶按钮开关封盖部件及其制造方法
278 94120137.6 氧化锆等离子喷涂粉末及共沉聚凝／烧结法
279 95118641.8 清除溴化物气蚀刻用真空处理室的方法
280 95115398.6 等离子体式熔化法和等离子体式熔化炉
281 94115237.5 电弧焊焊炬或者电弧切割焊炬及其电极夹具
282 95101725.X 微波－热等离子体生产活性富钛料及人造金红石的方法
283 95117968.3 复合渗镀方法
284 95121785.2 获得一种氧化锆基产品的方法
285 95119155.1 等离子增强真空干燥
286 95100543.X 以积分电位差冷发射启动之荧光灯
287 96101893.3 具有保护涂层的固化硅酮橡胶制品
288 94194432.8 带有钢瓶旋转机构和破割机构的钢瓶破割容器
289 97113951.2 在聚合物基体表面上进行亲水涂层
290 97107022.9 纳米钛酸铋及其固溶体制备方法
291 97113456.1 使外科用针黑化的方法
292 95196872.6 全氟化碳的制备方法
293 95196955.2 碳酰氟的制备
294 97113423.5 清洁外科用针的方法
295 96108777.3 半球型硅晶粒生长的方法
296 96118283.0 硅钢连续退火炉陶瓷复合涂层炉底辊
297 97117927.1 表面波等离子体处理装置
298 97111970.8 微波等离子体炬原子发射光谱仪
299 97114078.2 用于亚微米金属刻蚀的低压功率Cl₂/HCl工艺
300 96193012.8 四氟乙烯的制备
301 96192619.8 等离子焰炬
302 97114023.5 氯化铁系腐蚀废液的再生方法
303 96192440.3 改进的磁流体发电机
304 96111369.3 直流等离子体寻址结构中的抗溅射低脱出功的阴极电极导电涂层
305 96116095.0 一种铸铁表面快速扫描熔凝硬化的方法
306 97119791.1 生物活性梯度涂层人工关节的制备方法
307 97122123.5 用于化学机械抛光的压磨板涂层结构及方法
308 95197834.9 大工件等离子体加工器
309 96195107.9 用于电感性耦合等离子体源的低电感大面积线圈
310 97121891.9 制备原子吸收测定钢铁中总铝溶液的方法
311 96123503.9 氧化锌陶瓷线性电阻及其制造方法
312 97117063.0 金属表面处理方法、其处理的制冷剂压缩机用旋转轴和滑片以及该制冷剂压缩机
313 97125393.5 净化一种气体的流程和用于实施这种流程的设备
314 97105079.1 高通量中性原子束流的制备技术
315 97190524.X 高压金属卤化物灯
316 96196235.6 利用等离子体处理大面积衬底基片的系统
317 98106008.0 连杆头端孔内的轴承材料
318 98105942.2 从金属硅中除去硼的方法和装置
319 97129706.1 用于离子源的旁热式阴极的端帽
320 98107716.1 等离子电弧喷枪
321 98100854.2 真空薄膜生长设备
322 98109290.X 等离子体处理的方法及装置
323 98101090.3 非水电解质二次电池
324 96198711.1 对比度改善的等离子体面板
325 98101293.0 金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法
326 97112148.6 一类等离子体脱硫的添加剂
327 98114842.5 干法腐蚀半导体层的工艺和设备
328 98105899.X 耐蚀、耐磨性优良的表面改性金属部件及其制法
329 96198412.0 在真空处理装置中静电夹持绝缘工作的方法和装置
330 96198332.9 磺化聚合物及聚合物的磺化方法
331 96197935.6 轻金属合金滑动面的制作方法
332 98118290.9 在半导体晶片上形成电导接结构的方法
333 99108102.1 "涂覆树脂的复合箔及其制造,用其制造多层覆铜层压板和多层印刷线路板"
334 97199315.7 作为可调谐X射线源的球形惯性静电约束设备
335 99106300.7 在铝/铜金属线路上除去活性离子蚀刻后的聚合物
336 98119218.1 降低在蚀刻氮化物时产生微负载的方法
337 96194041.7 等离子体蚀刻系统
338 98125264.8 形成半导体器件槽隔离的方法
339 97180373.0 检测抗P53抗体的测定方法
340 97192771.5 正性光刻胶组合物的热处理方法
341 97194587.X 霍尔效应等离子加速器
342 98125803.4 具有喷涂熔合制成的摩擦层的电梯安全制动器
343 97194754.6 流化床处理电弧炉粉尘
344 97109373.3 用于等离子体处理粒子控制的等离子体净化方法
345 97195275.2 等离子加工室的温控方法及设备
346 98104976.1 一种测定煤中灰分元素的分析方法
347 98103143.9 在1385nm处具有低损耗的光纤及其制造方法
348 97192770.7 正性光刻胶组合物的热处理方法
349 98124361.4 检测喷嘴和电极损耗的系统和方法
350 99102190.8 在集成电路中形成沟槽式电容器的改进技术
351 99101671.8 脉冲辉光放电等离子表面冶金技术
352 97197274.5 等离子体腐蚀反应器和方法
353 99113615.2 一种以水为燃料的内燃机气缸及一种将水制成燃料的方法
354 98115050.0 金属层间介电层及其制造方法
355 99104103.8 放电灯及其制造方法
356 98117034.X 钽喷丝头表面等离子体强化技术
357 99104925.X 铜互连结构及其制作方法
358 99114135.0 等离子污水处理方法及其装置
359 98107934.2 集成电路的制造方法
360 98126221.X 有可调喷射器的等离子喷管和使用该喷管的气体分析仪
361 98108949.6 离子束集中器及配有该集中器的等离子体推进器
362 98102907.8 具有低电阻的晶状固溶体粉末的制备方法
363 98108961.5 等离子体处理方法及设备
364 97192426.0 钛和钛合金的等离子体除锈皮
365 97192593.3 溅射靶及其制备方法
366 97192455.4 导电涂层的涂敷方法
367 98116475.7 铜、镍硫化矿无污染火冶法
368 98119315.3 一种半导体器件及其生产方法
369 98115079.9 由电弧等离子体高速淀积法形成的保护涂层
370 98115119.1 等离子体活化蒸发法沉积二氧化硅
371 97118704.5 一种用等离子体强化处理石材圆锯片的工艺方法
372 97116734.6 汽油、氢氧源、等离子割焊兼电焊一机多功能系统
373 98116258.4 不污的、具有可润湿性涂层的部件
374 97106641.8 用等离子体激励汽车发动机燃烧室内燃料燃烧的方法
375 98120993.9 用作屏幕的等离子体平板中的消气系统
376 98114980.4 减少集成电路制造过程中侧壁堆积的金属蚀刻方法
377 98102465.3 油田用水溶性高分子多元共聚物
378 98107708.0 利用低温等离子反应器进行脱硫脱氮的工艺
379 98118803.6 用于蚀刻含有二氧化硅的层的方法
380 98120770.7 用于进行平面化和凹入蚀刻的方法及装置
381 97181530.5 反应性涂料
382 97181439.2 具有可见光活性的光催化剂及其利用
383 98805586.4 在真空中生成金刚石般碳涂层的方法
384 99121524.9 短路焊机
385 98805971.1 涂层工件的制造方法、方法的应用及其装置
386 99115989.6 介质阻挡放电灯
387 98806931.8 利用热灯丝直流等离子体进行金刚石成核和沉积的设备及方法
388 99127764.3 铝/铜金属连线上反应离子蚀刻后聚合物的清除方法
389 99127824.0 具有延长的电迁移寿命的连接件
390 00101199.5 磁头及其制造方法和磁盘设备
391 00103233.X 等离子焊接熔池穿孔状态的电弧电压传感方法及其系统
392 98807035.9 在光学纤维拉伸期间将涂层沉积在其上的方法及实施该方法的装置
393 98807364.1 标记金刚石的方法
394 00102364.0 改善光刻胶耐蚀刻性的方法
395 98807647.0 带有一个复合轴承的连杆
396 98807501.6 气体净化装置
397 00103235.6 等离子焊接熔池小孔尺寸的电弧检测方法及信号采集系统
398 98807945.3 表面涂层
399 00105933.5 等离子弧焊熔池穿孔状态的声音信号传感方法及其系统
400 98808197.0 电磁粉末淀积的方法及设备
401 98808670.0 "喷射等离子体方法,沉积涂层的设备及制得的涂层"
402 00105375.2 多层印刷电路板用的绝缘树脂组合物
403 00105881.9 圈卷产色链霉菌变株及其培养方法和应用
404 99118862.4 用于减少金属线刻蚀后腐蚀的敷金属层刻蚀技术
405 00105395.7 高压放电灯、灯电极及其制法、用该灯的照明和显示装置
406 00106211.5 碳毫微管的形成方法
407 00101912.0 塑料件固定在玻璃壶上的方法
408 00104139.8 刀片的非晶态金刚石涂层
409 00113787.5 水热合成纳米羟基磷灰石生物涂层的复合制备工艺
410 99800930.X 扬声器用振动板、其制造方法和使用它的扬声器
411 00106557.2 镶嵌腐蚀方法中各向异性氮化物的腐蚀工艺
412 98809599.8 低蒸汽压化合物的等离子体增强化学沉积方法
413 00118493.8 灯头安装方法
414 00118831.3 管球的制造方法
415 00109434.3 柴油机中同时降低氧化氮及碳黑微粒排放的清洁燃烧方法
416 00116408.2 一种含NOX废气的净化方法
417 98810404.0 用于多层光刻胶方法的热固性聚酯防反射涂料
418 97182480.0 铝合金制件上产生硬质防护涂层的方法
419 99108257.5 电晕放电水蒸气活化方法
420 99110936.8 注入氢负离子的方法及注入设备
421 99103034.6 具有宽输出电流工作范围的离子源
422 99118090.9 等离子体蚀刻设备和用这种设备制造的液晶显示模块
423 99118147.6 用于无电极金属卤化物放电灯的启动系统
424 98112195.0 曝气法啤酒酿造水处理工艺
425 99118417.3 无电极高亮度放电灯
426 99108860.3 带有外延隐埋层的沟槽式电容器
427 99117960.9 使用氯等离子体的半导体衬底的改进的氧化工艺
428 98803354.2 具有外阻气涂层的塑料容器
429 99117587.5 一种生产超细三氧化二锑的方法及设备
430 99108861.1 带有外延隐埋层的瓶形沟槽式电容器
431 97180894.5 具有密封陶瓷反射外壳的无电极的灯
432 00116307.8 一种有机废气的净化方法
433 98811137.3 全部表面可偏压和/或温度控制的静电屏蔽射频等离子源
434 98811433.X 在颗粒上包覆金刚石样碳的方法与设备
435 98811428.3 无机磷光体上的金刚石样碳覆层
436 98810895.X 在燃气涡轮叶片上形成磨料叶尖的方法
437 00122218.X 微波炉
438 98811569.7 在刀具上沉积细粒氧化铝涂层的方法
439 00124241.5 离子源
440 00118582.9 钽非晶氧化物表面层或薄壁件的制备方法
441 00122146.9 灯泡及其制造方法
442 98813226.5 消除金属化学汽相淀积期间的边缘效应的方法
443 00126898.8 灯泡及其制造方法
444 00120786.5 柴油机中同时降低氧化氮及碳黑微粒排放的清洁燃烧方法
445 99802063.X 用于生产电子发射体的等离子体处理方法
446 99804736.8 配合组合物
447 00127573.9 耐材成份的测定方法
448 00130053.9 驱动合成纤维牵索的索驱动件
449 00132191.9 高温等离子体烟气脱硫剂
450 00132192.7 高温等离子体烟气脱硫方法
451 00131176.X 抗高温磨损和腐蚀合金粉末
452 00134734.9 具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组合物
453 01103073.9 具有碳氮化物层的切削刀具
454 01116417.4 一种防避雷电的方法及为实施该方法的解雷器
455 01113556.5 一种BN纳米管及其制法
456 01104953.7 离子源及其操作方法
457 99809477.3 表面涂层
458 99809269.X ESRF冷却剂的脱气方法
459 99811306.9 微石印用光致抗蚀剂、聚合物和工艺
460 99811406.5 表面涂层
461 99810434.5 引线交迭线圈
462 00103220.8 后置式汽车尾气净化器
463 00105877.0 一种臭氧产生方法及其器件
464 00134498.6 大工件等离子体加工器
465 01104917.0 分布式反馈表面等离子体振子激光器
466 00106219.0 免油机动飞行器
467 99811783.8 绝缘子
468 99807590.6 半导体工艺舱电极及其制作方法
469 99812749.3 在固体聚合物基质表面镀金属的方法及所得产品
470 99812637.3 光刻胶及微平版印刷术
471 01119222.4 获得具有金色金属外观的氧化锆基制品的方法
472 01115935.9 层压板
473 99811821.4 含有两种掺杂剂的镧、镥、钇或钆的硼酸盐及其前体和其在等离子体或X射线系统中的用途
474 99812783.3 制作粘着性表面覆层的方法
475 00802344.1 具有平铺式瓷衬的半导体加工设备
476 99805062.8 阻抗减小的室
477 00127941.6 一种改进的以氟硅酸钠为原料制备白炭黑的方法
478 99126340.5 喷气靶激光等离子体软X射线源
479 99805595.6 得自纤维素粘合剂的快速蚀刻、热固性抗反射涂料
480 99120144.2 碳包金属、碳包金属碳化物纳米微粉的合成方法
481 00800874.4 减小半导体接触电阻的方法
482 01109211.4 一种大气压放电表面等离子体源
483 00126286.6 "隔离器和电极,特别是阴极或阳极的粘合方法以及电池"
484 01126087.4 静电场可逆原理发电
485 99815305.2 大面积等离子体源
486 01121334.5 一种从气流中去除含氟、氯、硫或氮的有害气体的方法
487 01121492.9 多层防结焦耐热金属管及其制造方法
488 00113501.5 用电解锰作原料直接熔炼高品位块状金属锰的方法
489 01121509.7 一种从气流中去除NOx的方法
490 01128502.8 等离子弧汽相反应炉
491 01103032.1 磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层
492 00111206.6 一种铸铁柴油机气缸套的生产方法
493 99815306.0 等离子体真空泵
494 99815472.5 用于半导体处理室的室衬
495 01128430.7 一种光纤预制棒的制造方法
496 00803172.X SPVCD硅酸盐玻璃
497 00122852.8 采用类金刚石修饰人工晶体的方法
498 00113623.2 一种钢基表面耐磨复合涂层的涂复方法
499 01125941.8 热喷涂方法及其使用的稀土元素氧化物
500 01142100.2 用于紫外线灯系统的反射器
501 00805379.0 表面等离子体振子谐振传感器
502 01134380.X 自适应表面等离子体波气体折射率传感元件
503 99816600.6 用激光显影掩模层对金属基体选择性镀覆方法及设备
504 01130486.3 循环等离子体电推进(火箭)发动机
505 00133513.8 焊缝对称型钢板制对焊弯头及其制造工艺
506 01138429.8 离子源及其运行方法
507 00808245.6 制备共晶陶瓷的方法
508 00807274.4 氧化物玻璃的硫属化物掺杂
509 00808090.9 在电感耦合的等离子体内改善等离子体分布及性能的设备
510 00132757.7 等离子体增强催化剂酸性的方法
511 00123286.X 一种由甲烷或天然气直接转化制碳二烃的方法
512 00807803.3 包括中间碳涂层和接枝聚合的硅氧烷医疗器件的表面处理
513 00807817.3 具有揉性碳覆盖层的硅氧烷水凝胶接触镜片的等离子体表面处理
514 01143444.9 一种用电弧激发超声波的方法
515 00808799.7 叠层体、叠层体的制备方法及半导体元件
516 01133545.9 制造高强度抗疲劳光波导纤维的生产工艺
517 00809591.4 半导体加工设备的防腐组件及其制造方法
518 00809598.1 用于有机蚀刻的侧壁钝化的方法和装置
519 00809594.9 使用钛硬掩模刻蚀金金属层的方法和装置
520 01800078.9 用氧化物还原腐蚀清除残留物的方法
521 00135880.4 常温电晕放电制备纳米碳管的工艺
522 00135862.6 常温等离子体转化乙炔制碳黑的方法
523 00135863.4 采用等离子体转化甲烷和二氧化碳制备汽油的方法
524 01145491.1 具有荧光层的等离子荧光屏
525 00809987.1 提供旋转电场的电感无电极灯
526 02109181.1 低温等离子体处理种子的方法及低温等离子体种子处理机
527 01143331.0 等离子体处理方法和设备
528 01101336.2 不含氮化物的凹槽隔离物的制造方法
529 00136799.4 高效远红外涂料及其制备方法
530 00810636.3 用于等离子体密度测量的稳定化振荡电路
531 01140308.X 树脂成型体
532 02102263.1 煤快速热解与等离子体热解制乙炔组合工艺
533 02102826.5 具有荧光层的等离子图像屏幕
534 00811329.7 脉冲等离子体处理方法及其设备
535 02106210.2 由固体碳和水生产氢气的方法和系统
536 01138617.7 金属表面喷涂自反应复合粉合成金属/陶瓷复合涂层
537 01140159.1 可控金属纳米导线的化学制备方法
538 01145759.7 半导体器件的制备方法
539 01107133.8 智能多功能逆变式焊接/切割电源
540 02103558.X 自适应等离子体表征系统
541 99816864.5 轻合金基复合防护多功能涂层
542 00809595.7 用于蚀刻碳掺杂有机硅酸盐玻璃的方法和装置
543 00809725.9 具有经改善的温度均匀性的等离子体反应室部件
544 00811854.X 用直流电等离子聚合在金属表面连续形成聚合物的设备
545 02116968.3 等离子体处理作物种子的方法
546 01106295.9 城市垃圾固液气三相资源化处理方法
547 01110993.9 预清室的微粒污染防止方法
548 01111262.X 一种快速防止预清洗室微粒污染的方法
549 01110992.0 预清室的硅化物清除方法
550 02116694.3 行波管用的金刚石杆的制备方法
551 01109272.6 晶体管T型发射极或栅极金属图形的制造方法
552 02115663.8 放电等离子烧结法制备氮化铝透明陶瓷
553 00812346.2 化石燃料转化成富氢气体的等离子体转化器
554 01109715.9 制备高亲和性二氧化钛纳米粉体的方法
555 02106211.0 合成天然气的产生系统和有关方法
556 02107463.1 化学气相沉积设备
557 02101876.6 探测分析系统的宽带设计
558 01110119.9 一种金属层间介电层的制造方法
559 00813610.6 多区电阻加热器
560 01125924.8 光学元件的制造方法
561 00122616.9 制造半导体电容器的方法
562 02119066.6 由固体碳和水生产重质烃的方法和系统
563 01109759.0 羊毛纤维制品的防缩处理方法
564 02108712.1 等离子体处理
565 02102262.3 煤连续焦化与等离子体热解制乙炔组合工艺
566 01110561.5 一种超双亲性织物纤维及其制法和应用
567 02119283.9 等离子体荧光屏
568 01116580.4 半导体元件的阻挡层孔洞消除方法
569 01116579.0 伴随介电层形成阻挡层的半导体制造方法
570 02113987.3 大颗粒球形纳米陶瓷粉末的生产方法和应用方法
571 01110196.2 减少等离子体工艺所致微粒物质污染的方法与装置
572 02120105.6 主载体的清洁方法
573 01142479.6 等离子增强真空干燥
574 01117696.2 降低等离子损害的导流电路及半导体制造方法
575 01802066.6 薄膜晶体管及其制造
576 00815057.5 等离子显示板
577 01801748.7 封入氧化物玻璃微粒子及其制造方法
578 00122773.4 选择性半球形硅晶粒制作工艺
579 00806010.X 通过冷加工和表面退火生产金属产品例如片材的方法
580 200710018891.3 一种钛合金板材的加工工艺
581 200710059938.0 Fe₃Al金属间化合物涂层的制备方法
582 200710132924.7 等离子化学气相沉积炉
583 200710029739.5 一种辉光放电电解甲醇溶液制备甲醛的方法
584 200680008693.2 设有防腐蚀层的换气阀
585 200680006021.8 配置等离子体群集工具的方法和装置
586 200710052760.7 一种从工业废气中回收微细硅粉或微细硫粉的方法
587 200610153708.6 高分子制品的加工处理方法
588 200710049919.X 钢轨表面熔覆防锈耐磨合金的方法
589 200710133982.1 一种制造变异势垒氮化镓场效应管的方法
590 200710045405.7 一种改善Cu_xO电阻存储器疲劳特性的方法
591 200680009162.5 制备初炼难熔金属的方法
592 200580049207.7 热能重获和回收以及它的新应用
593 200680009501.X 离子源中的阴极和反阴极装置
594 200680009460.4 使用双频率射频源的等离子体产生与控制
595 200610113239.5 一种制备六角有序FePt纳米颗粒阵列的方法
596 200710166334.6 化纤面料常压等离子体处理方法
597 200710047757.6 等离子体法接枝季铵基团的化学纤维及其接枝方法
598 200680010026.8 空气-等离子体处理过的热塑性塑料的粘合
599 200680010367.5 等离子体掺杂方法和设备
600 200680010338.9 灰化设备、灰化方法及杂质掺入设备
601 200680010250.7 使用光致抗蚀剂掩模的蚀刻
602 200710147183.X 含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物
603 200610030529.3 防止屏障层中金属钛被蚀刻或腐蚀掉的方法
604 200610112739.7 一种制备纳米氧化锌晶须的方法
605 200710141892.7 固体燃料燃烧强化法
606 200710026150.X 一种汞离子荧光显色剂及检测方法、测定试纸及其用途
607 200680007418.9 在等离子体接触过的载体上的烯烃聚合催化剂
608 200610116842.9 等离子体增强化学气相淀积方法
609 200610116845.2 高密度等离子体化学气相淀积方法
610 200710046052.2 一种羊毛织物的防毡缩处理方法
611 200710153242.4 间隙测量系统及其操作方法
612 200710140294.8 等离子体处理方法
613 200610116849.0 介质层的形成方法
614 200610116878.7 刻蚀停止层及双镶嵌结构的形成方法
615 200610116848.6 镶嵌结构的制造方法
616 200710145786.6 使用可变阻抗分析的匹配网络表征
617 200610116841.4 用于产生等离子体的系统
618 200680011123.9 等离子体处理方法和系统
619 200610116928.1 干式洁净介电层开口蚀刻反应室的方法
620 200710106005.2 高尔夫球杆头
621 200710178566.3 一种分体石墨坩埚以及在其埚内制阻碳涂层的方法
622 200610117137.0 一种半导体晶圆蚀刻灰化后的清洗方法
623 200610140756.1 氮化镓表面低损伤蚀刻
624 200580009423.9 用于去除表面沉积物的远距腔室法
625 200680013788.3 用于地层钻孔钻头的牙掌和锥体耐磨堆焊
626 200710149886.6 非转矩动力电动汽车
627 200710030584.7 一种利用等离子体衍射制氢的反应器
628 200710044320.7 一种微流体浓度梯度细胞培养芯片及其制备方法和应用
629 200610136061.6 降低导电层与掩模层间应力的方法以及制造栅极的方法
630 200680010072.8 等离子体处理系统中确定清洁或调节处理终点的方法和装置
631 200680009658.2 曝光方法和工具
632 200710188426.4 一种彩色等离子体用绿色荧光粉的制造方法
633 200710167931.0 抗蚀涂料和其制备方法
634 200710181281.5 静电卡盘的诊断方法、真空处理装置和存储介质
635 200710181653.4 具有自对准气隙绝缘体的电阻随机存取存储器的制造方法
636 200680014982.3 含有气体供应的等离子体光谱学系统
637 200710182126.5 光学预制件的制备方法
638 200710176457.8 一种LaGaO₃基固体电解质靶材的制备方法
639 200710157083.5 废铅酸蓄电池回收铅过程产生的酸性废液的回收利用方法
640 200710167281.X 热喷涂粉末、形成热喷涂涂层的方法以及抗等离子体构件
641 200710188401.4 非平衡液态复合脉冲等离子抛光方法
642 200710161548.4 用于抗蚀剂去除和下层部件刻面控制的等离子体
643 200710181113.6 存储单元及其制程
644 200610142935.9 用于气体离子化处理的方法和设备
645 200680016896.6 等离子切割装置及方法
646 200680016061.0 借助底漆将胶粘体粘结到基底上
647 200680016220.7 在等离子体弧气炬的应用中不连续气体喷射流的产生
648 200710301275.9 一种细长金属板材的等离子切割方法
649 200710171630.5 等离子与生物酶结合的羊毛针织物抗毡缩整理方法
650 200710178933.X 等离子医疗垃圾焚烧方法
651 200610129344.8 空调器室内机的双风扇结构
652 200610143599.X 移除光致抗蚀剂层的方法以及开口的形成方法
653 200610138234.8 一种等离子体源及其应用
654 200710135518.6 用于存储器单元的SONOS结构腐蚀工艺
655 200710165166.9 制造具有凹槽栅极的半导体器件的方法
656 200610097597.1 具有低电流集边效应的金属/氮化镓铝/氮化镓横向肖特基二极管及其制备方法
657 200710145640.1 用于产生离子和游离基的系统和方法
658 200580031980.0 用于改善表面波等离子体源和等离子体空间之间的耦合的方法和系统
659 200710032541.2 一种WC-Co系纳米复合硬质合金粉体的制备方法
660 200710179631.4 一种Ni/Al₂O₃复合粉末的制备方法
661 200710168384.8 大直径光纤芯棒的PCVD制作方法
662 200710171944.5 小功率微波等离子体源
663 200680018829.8 蚀刻形貌控制
664 200710032711.7 高强度轴瓦
665 200710170253.3 增强磁控制等离子体径向分布的约束挡板和流动均衡器
666 200680007428.2 等离子体发电系统
667 200680019603.X 具有可更换的隔离保护装置的耐等离子体密封组件
668 200680019753.0 具有降低的蚀刻率微负载的钨硅化物蚀刻处理
669 200680019387.9 封装的耐压构成的非严密密封的旋转对称的大功率火花隙
670 200680015587.7 开放室多火花塞
671 200680013906.0 用于废物处理腔室中的改进等离子体矩
672 200610118710.X 钢包精炼炉处理超纯铁素体不锈钢控制碳氮含量的方法
673 200610118838.6 金属氧化物半导体器件栅极的制造方法
674 200610118830.X 隔离沟槽的填充方法
675 200610118836.7 半导体器件金属接触粘接层的制造方法
676 200680017874.1 由卤代硅烷制备硅的方法
677 200680020524.0 使用等离子体炬处理粒子的方法
678 200580024099.8 用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法
679 200680016368.0 具有多个异相电极的高频等离子体源
680 200680020838.0 使用电极片独立运动的蚀刻率均一性的改进
681 200680020424.8 使等离子体-生成的离子偏转以防止离子到达EUV光源的内部元件的系统和方法
682 200680020797.5 一种热能发电的方法及发电机
683 200610164902.4 反应腔室清洗的方法
684 200610124166.X 悬磁高速自动切割机
685 200710165350.3 位置控制双磁控管
686 200710048387.8 等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺
687 200710060307.0 微波萃取等离子体质谱法测定土壤中有效硼含量的方法
688 200710172690.9 土壤重金属污染定量化检测系统及检测方法
689 200710191588.3 杭白芍药材质量控制方法
690 200710191834.5 保护槽型等离子体电极的方法
691 200710187512.3 用于多层抗蚀剂等离子体蚀刻的方法
692 200610119061.5 栅极的制造方法
693 200610164844.5 硅片刻蚀的方法
694 200610119145.9 金属氧化物半导体器件的制造方法
695 200610119168.X 包含光吸收层的器件及其制造方法
696 200610119055.X 浅沟槽隔离结构的形成方法
697 200610119146.3 隔离沟槽的填充方法
698 200610119148.2 半导体器件及其制造方法以及接触刻蚀停止层
699 200710199710.1 等离子体处理设备
700 200680018402.8 快速生长速率的无色单晶CVD金刚石
701 200680021500.7 通过等离子体在至少一个侧面形成薄涂层的聚合物制品及其生产方法
702 200680021011.1 具有可调电极面积比的受约束等离子体
703 200680020988.1 防止半导体器件中的铜脱层
704 200710142894.8 高尔夫球杆头
705 200710199091.6 用涂料装饰塑料组件的方法
706 200610165109.6 等离子去胶台可调式载片体
707 200710198515.7 将等离子体参数预期值转换为腔室参数值的反应器控制
708 200610147323.9 镶嵌结构的制造方法
709 200610147318.8 CMOS图像传感器的像素单元的形成方法
710 200680020615.4 分析半导体等离子体生成系统中的功率通量的系统和方法
711 200680021824.0 提供斜角屏蔽流喷射的等离子体弧气炬
712 200710191348.3 电磁感应式等离子体平板背光源
713 200610169566.2 半导体硅片刻蚀工艺的控制方法
714 200610147795.4 通孔的形成方法
715 200610147803.5 镶嵌结构的制造方法
716 200610147850.X 形成集成电路器件自对准接触的方法
717 200480043723.4 用于基板涂敷的等离子涂敷系统
718 200610171761.9 等离子体重组器以及具有此等离子体重组器的内燃机系统
719 200610135152.8 一种用于燃气轮机导向叶片的氧化锆热障涂层及喷涂工艺
720 200610147868.X 光刻胶的去除方法
721 200610171762.3 半导体工艺
722 200710129437.5 用于制造半导体器件的方法
723 200680023961.8 垃圾处理方法和装置
724 200710063224.7 一种半导体刻蚀设备腔室的清洗方法
725 200810055944.3 适合于热喷涂的金属陶瓷复合粉体的制备方法
726 200710192005.9 一种提高等离子喷涂陶瓷涂层与基体结合强度的方法
727 200810052119.8 基于表面等离子体共振乳制品中抗生素的竞争检测方法
728 200710302618.3 含氮物质中氮含量的测定方法
729 200710063229.X 一种等离子刻蚀设备的维护方法
730 200680024762.9 氧化钇烧结体和耐腐蚀性部件、其制造方法
731 200680024131.7 改进的涂布刮刀
732 200680024501.7 用于检测患者或动物体内分析物的方法
733 200680011125.8 等离子面板的维持设备
734 200710046705.7 一种低温下稳定的纯单斜氧化锆涂层、制备方法及应用
735 200810025896.3 等离子体衍射电极
736 200810033102.8 一种TiB₂-WC增强Ni基复合涂层的制备方法
737 200710139619.0 一种变压器油中多种金属元素的同时测定法
738 200710129979.2 具有背部光传感器和蚀刻分布多频控制的等离子体反应器
739 200810019529.2 一种光降解催化剂三氧化钨纳米粉体的用途
740 200810065202.9 包装盒粘叠表面处理方法
741 200810033283.4 太阳能电池片涂层工艺用等离子管制造方法
742 200710199782.6 涂敷系统、涂敷方法和涂敷制品
743 200810059846.7 基于表面等离子共振技术的在线折射率计
744 200710062847.2 一种等离子刻蚀工艺的预测与监控方法
745 200710062764.3 一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法
746 200710062731.9 硅片脱附的方法
747 200710036529.9 一种消除多晶硅刻蚀过程出现缝隙的方法
748 200810002917.X 芯片载体衬底及其制造方法
749 200710036492.X 用于低温等离子过氧化氢消毒杀菌设备的等离子电源
750 200680027047.0 低氢压力下的远程等离子预清洁
751 200580051157.6 注射型等离子体处理设备和方法
752 200710002699.5 处理晶圆的方法
753 200710008111.7 镶嵌内连线结构与双镶嵌工艺
754 200810009320.8 等离子加工设备
755 200680028270.7 轮胎硫化模具的清洗方法以及装置
756 200680028193.5 用于将含碳原料转化为特定成分气体的系统
757 200680027607.2 用于钝化衬底表面的方法
758 200710177047.5 雾化电晕等离子体烟气净化设备
759 200810060091.2 一种TiO₂/γ-Al₂O₃复合载体的制备方法
760 200810059897.X 一种芳纶织物超高温高压染色方法
761 200810034119.5 纯石英芯包层模谐振特种光纤及其制备方法
762 200810002196.2 包括氮氧化铝衬层和类金刚石覆层的磁记录头和介质
763 200810008875.0 具有等离子壳层控制器的离子束设备
764 200680028543.8 使用氟化硫从CVD/PECVD腔的内部除去表面沉积物的远程腔方法
765 200680028471.7 用于在氧化物膜中掺入氮的方法和装置
766 200680028968.9 带有介电间隔环的边缘环组件
767 200810072815.5 采用阳离子树脂对膨润土矿浆进行钠化改型的方法
768 200810083894.X 等离子体反应室用硅部件
769 200710170055.7 制造金属氧化物半导体场效应晶体管的方法
770 200810000277.9 具有采用VHF源的离子分布均匀性控制器的等离子体反应器
771 200810000279.8 通过分配多个VHF源中功率改善晶圆上等离子体处理均匀性
772 200810000280.0 具有可变高度接地回路的等离子体反应器中处理工件方法
773 200810084561.9 等离子弧气刨清理铸件缺陷的方法
774 200710037657.5 耐熔融金属浸蚀用纳米复合金属陶瓷粉体及其制造方法
775 200680030983.7 时分多工工艺中的用于终点的波长选择
776 200680027850.4 使用干式刻蚀工艺以有效率地图案化凸块下金属化层的技术
777 200810103236.2 一种航天推进剂废水的处理方法及其移动处理车
778 200710108561.3 控制含有磁性和非磁性元素的溅射靶中的漏磁通
779 200810056116.1 采用表面等离子体谐振检测技术的测试分析仪器
780 200810061147.6 等离子枪的喷嘴
781 200410007177.0 山野菜无盐浸渍保藏方法
782 200410021909.1 等离子体合成多种纳米粉末的生产工艺
783 200410018733.4 用于深度净化燃料油中硫化物的脱硫吸附剂及其制备方法
784 200410008468.1 一种超声等离子喷涂方法
785 02819459.4 用于在杆状预制件的外表面上沉积玻璃层的方法和装置
786 02819028.9 电容放电等离子体离子源
787 200410029622.3 流光放电等离子体烟气污染物同步净化方法
788 200410012936.2 糖蜜酒精废液净化回用的方法
789 200410012247.1 纤维表面纳米功能化处理方法
790 03133805.4 一种大量制备钛铝系金属间化合物纳米粉的方法
791 200410069608.6 碳纤维前体纤维束及其制造方法
792 03143068.6 等离子发光面板
793 03145066.0 等离子发光面板
794 03145067.9 等离子发光面板
795 03148401.8 使半导体沉积层平整的方法
796 200410018039.2 表面设有药物涂层的不锈钢心血管支架及其制备方法
797 200410018040.5 一种表面设有药物涂层的心血管支架的制备方法
798 03135410.6 一种甲醇裂解制CO和H₂反应用新型催化剂
799 200410024051.4 一种磨粉机磨辊、磨辊表面磨齿的加工方法及磨辊的用途
800 200410014892.7 蚕丝纤维及其织物的精练脱胶方法
801 03147558.2 实现对称结构硅基二氧化硅应力光波导偏振不灵敏的方法
802 200410064070.X 氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶
803 03147485.3 等离子体反应室
804 200410012321.X 利用再生资源制备乙炔气体的方法
805 200410057670.3 等离子体显示板及其制造方法以及薄膜
806 02822346.2 致密多层碳质纳米管的制造方法
807 02821004.2 药剂分配器
808 02821520.6 非热等离子体狭缝放电设备
809 200410055044.0 具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统
810 03159751.3 用于等离子体掺杂的方法和装置
811 200410063795.7 半导体器件制造方法和蚀刻系统
812 200410034716.X 晶圆基座及使用该晶圆基座的等离子体工艺
813 03146185.9 电弧炉转等离子体运行
814 200410062833.7 产生等离子的等离子源线圈和使用等离子源的等离子腔
815 02822122.2 等离子体处理器线圈
816 200410045459.X 转基因产品的表面等离子共振生物传感器检测方法
817 03153266.7 纤维表面具有纳米结构的超黑羊毛织物及其制备方法
818 200410003241.8 无电极灯
819 03149921.X 蚀刻中止层的重作方法
820 200410045769.1 从一基底移除残余物的方法
821 200410049115.6 更换等离子体反应室的电极组合的方法
822 02820895.1 头部按摩用的贵金属超微分散水
823 02820935.4 用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物
824 200410053563.3 一种微机电系统扭转镜面驱动器、制作方法及应用
825 200410060796.6 纳米结构的钇稳定氧化锆团聚型粉末及其生产方法
826 200410155295.6 介质阻挡放电诱导半导体光催化处理有机废水方法及设备
827 200410060795.1 铝/钇/锆三元复合氧化物纳米结构团聚体粉末及其生产方法
828 200410050203.8 一种用丙烯、氧直接合成环氧丙烷的高压放电反应器和方法
829 200410053174.0 红外焦平面探测器的铟柱成球方法
830 200410074342.4 硅片低温直接键合方法
831 200410003243.7 无电极照明系统
832 02823286.0 粘合窗玻璃与基材而无需底漆处理的方法
833 02821737.3 蚀刻高长径比零件的方法
834 01821537.8 半导体器件及其制造方法
835 03158414.4 全氟化物废气处理方法
836 200410155136.6 一种强电离放电非平衡等离子源及制备等离子的方法
837 01816431.5 降低颗粒物损失的多孔吸气剂器件及其制备方法
838 03801691.5 气体放电管
839 200410035768.9 一种羟基磷灰石空心微球及其制备方法
840 200410035619.2 甲壳低聚糖锌硼镁肥的制备方法
841 200410011048.9 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的工艺
842 200410011149.6 整筒不锈钢抽油泵的制造方法
843 200410040789.X 共靶X射线时空分辨摄谱方法及其谱仪
844 200410041523.7 检测单核苷酸多态性的光纤表面等离子体波核酸传感器系统及检测方法
845 02824069.3 按照图案将材料转移到经等离子体处理表面的方法及材料
846 03157571.4 一种烃热等离子体制乙炔工艺及其设备
847 200410078292.7 制造固态图像传感器件的方法
848 02824545.8 等离子体产生装置和方法以及RF驱动器电路
849 200410084061.7 麻痹性贝毒的表面等离子体共振快速检测方法
850 200410080671.X 半导体发光元件
851 02825208.X 弹性体成型品
852 02825216.0 交联性弹性体组合物及由该组合物形成的成型品
853 200310100932.5 等离子纳米催化消毒净化器
854 03121845.8 加速度传感器及其制造方法
855 200410009804.4 具有单磁畴结构的电流垂直于平面构型自旋阀及制备方法
856 200410090043.X 等离子体合成金属氧化物纳米颗粒
857 02817702.9 用于等离子室的悬挂式分气歧管
858 200410072553.4 反应等离子喷涂纳米晶氮化钛粉末的方法
859 200410051332.9 金属离子注入机
860 200410080877.2 离子源中的阴极和反阴极装置
861 200310111903.9 用等离子体环境改良的颗粒超细和超香的咖啡
862 200310111902.4 用等离子体环境消毒空气的方法和产生等离子的设备系统
863 03801960.4 配备有等离子体处理模块的消毒设备和消毒方法
864 02826648.X 用于在酸性介质中进行电解的电极
865 03801909.4 半导体生产系统用的陶瓷加热器
866 03801911.6 半导体生产系统用的陶瓷加热器
867 03801916.7 半导体生产系统用的陶瓷加热器
868 200410073071.0 箔片空气轴承耐高温纳米复合润滑涂层及其制备方法
869 200410064718.3 高强度耐腐蚀辊件生产工艺
870 200310114869.0 光致抗蚀剂处理方法
871 200410009938.6 一种具有高磁电阻效应的双磁性隧道结及其制备方法
872 200410089772.3 螺旋谐振器型等离子体处理设备
873 02827309.5 用低能量等离子体增强化学气相沉积法形成高迁移率硅锗结构
874 200410072551.5 反应等离子喷涂纳米晶氮化钛涂层的方法
875 200410085941.6 电子部件的处理方法和处理装置
876 02827745.7 包含芳化间苯二酚聚酯的多层制品及其制备方法
877 02828014.8 用于选择性地蚀刻电介质层的工艺
878 200410058187.7 以双频射频源产生与控制等离子体
879 200410087401.1 金属氧化物纳米粒子的等离子体合成
880 200310105725.9 一种防止矿浆中氯离子对不锈钢反应釜腐蚀的方法及设备
881 03802827.1 制备强附着涂层的方法
882 200310120043.5 活性白土的生产方法
883 02828779.7 灰化方法
884 200310109300.5 植物防病增产器
885 200310122562.5 异质接面双极晶体管制造方法
886 03803317.8 在基底上进行电晕致化学气相沉积
887 200410065859.7 麦(稻)秸秆碎料板工业化生产制作方法
888 200410101846.0 一种在硬质合金工具上制备金刚石涂层的方法
889 200410093461.4 一种新的超薄含氮栅介质制备方法
890 200410093456.3 一种利用二氧化硫混合气体消除有机物的等离子刻蚀方法
891 200410009937.1 一种具有高磁电阻效应的磁性隧道结及其制备方法
892 200410075468.3 IR并联多系统控制集成平台
893 200510004470.6 调整导体表面功函数的方法与有机发光元件及其制作方法
894 03804125.1 处理聚合物基材的方法
895 02808158.7 用于有机硅酸盐玻璃低K介质腐蚀应用的用于O₂和NH₃的蚀刻后光刻胶剥除
896 02824972.0 衬底处理方法及半导体装置的制造方法
897 200310115976.5 一种用于医疗器械灭菌的方法
898 200310122835.6 一种利用低分辨率电感耦合等离子体质谱仪检测磷的方法
899 200410102690.8 洗碗机
900 200410102142.5 喷墨打印头及其制造方法
901 200410061306.4 热喷涂用纳米团聚体氧化锆粉末的制备方法
902 200410071331.0 改善热载子注入效应的方法
903 200410090840.8 静电卡盘、基片支持、夹具和电极结构及其制造方法
904 200410098895.3 电子照相机
905 03804694.6 用于半导体处理设备中的抗等离子体的焊接铝结构
906 02823613.0 可调谐的多区气体喷射系统
907 03805517.1 等离子体质谱分光计
908 200510000591.3 清洁反应室的方法
909 200410092421.8 煤干馏与等离子裂解制碳黑的组合工艺
910 200510005624.3 栅极氧化物的选择性渗氮
911 03808412.0 接触启动等离子弧吹管和用于启动引导弧的方法
912 03808888.6 内表面经涂覆的塑料容器及其制造方法
913 03808766.9 等离子体诱发的涂层固化
914 03807923.2 对去除微生物进行评价的方法以及用于对去除微生物进行评价的装置
915 03809090.2 曝光设备以及使用该曝光设备的器件制造方法
916 03808029.X 用于蚀刻通孔的改进方法
917 03808542.9 除去光刻胶和蚀刻残渣的方法
918 03808142.3 凝胶和粉末的制备
919 200310111598.3 微波等离子氧化强化内电解处理工业废水的方法
920 200310121362.8 提高纸的亲水和亲油性的方法
921 200410101230.3 对掺氟光纤预制管进行等离子覆层的方法
922 200410101231.8 制造光纤预制件的方法，光纤预制件及相关的光纤
923 200410094746.X 微波激励的等离子体处理设备
924 200310120592.2 选择性去除半球状硅晶粒层的方法及深沟槽电容器的制法
925 03803544.8 产生电感耦合等离子体的设备及其方法
926 03803607.X 冲击压缩物质的装置和方法以及等离子体阴极
927 200510004287.6 由电弧等离子体高速淀积形成保护涂层的方法
928 200510006816.6 光学元件的制造方法
929 200410081892.9 在半导体器件中形成接触的方法
930 03805881.2 保护涂料组合物
931 03806661.0 双模式等离子弧吹管
932 03806384.0 多室基材处理系统中执行的整合原位蚀刻制程
933 200410103813.X 耐等离子体构件、其制造方法及形成热喷涂涂层的方法
934 200510005888.9 等离子体增强的半导体淀积设备
935 200510006108.2 等离子体化学气相沉积系统及涂覆衬底两侧的方法
936 03809700.1 包含金属层顶部钨或钨化合物之连结垫
937 03809646.3 等离子体振动开关元件
938 200510023896.6 一种提高真空等离子喷涂碳化硼涂层结合强度的方法
939 200510007098.4 制造耐腐蚀装饰涂层的方法和用于金属基底的涂层系统
940 03810268.4 等离子体辅助渗碳
941 03811290.6 用于制造纳米粉末的感应耦合等离子反应器
942 03810549.7 "制造金属氧化物粉末或半导体氧化物粉末,氧化物粉末,固体的方法及其应用"
943 03810920.4 采用内外并行沉积制造光纤料坯的方法
944 03810278.1 等离子体辅助氮表面处理
945 03810352.4 用于衬底处理腔室的激光钻孔表面
946 03811109.8 有高熔点记录层的记录媒体、其信息记录法、及复制装置和方法
947 03811282.5 等离子体反应室用硅部件
948 03811241.8 去除光刻胶和蚀刻残留物的方法
949 03810611.6 等离子体处理设备和等离子体产生方法
950 02809623.1 半导体器件的互连
951 200410044157.0 一种低压力下烧结碳纳米管直接合成金刚石的方法
952 200510023476.8 应用于内部激光着色并形成三维彩色图案的玻璃
953 200410086524.3 使用双重阴极频率混合的等离子体控制
954 200510007849.2 在氟化氧化物沉积工艺中减少半导体器件污染
955 200510007268.9 用于产生等离子的电源供应器及包括其的等离子设备
956 02813876.7 具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物
957 200410089517.9 太阳光催化的氧化钛光催化剂制备及应用
958 200410036852.2 带有磁电管和目标物的溅射设备
959 200510016622.4 表面等离子体共振与表面增强拉曼联合光谱测试仪
960 03813293.1 用于玻璃化的采用两种加热方式的熔炉及方法
961 03813079.3 用于处理衬底的等离子体方法和装置
962 200510051719.9 等离子处理设备、半导体制造设备以及其中使用的静电夹具单元
963 02828724.X 利用等离子体进行均相和非均相化学反应的方法
964 03814239.2 等离子弧焊矩的末端
965 03814241.4 等离子弧焊矩的电极
966 03814267.8 等离子弧焊矩的消耗盒体
967 03814065.9 用于半导体处理等离子反应器的多部分电极以及替换多部分电极的一部分的方法
968 03815023.9 等离子体反应器的产量增进热喷涂含氧化钇涂层
969 03815028.X 等离子体处理方法
970 03814525.1 用于产生辐射的方法和装置
971 200510004041.9 生产III族氮化物晶体的方法
972 200410094090.1 基于片上PCR的多通道表面等离子共振影像传感器
973 200510051824.2 等离子体处理设备以及设计等离子体处理设备的方法
974 200510051298.X 接合基板、表面声波芯片以及表面声波器件
975 03815104.9 用于关节置换植入物的开孔金属涂层及其生产方法
976 03816280.6 分子探测器装置
977 03815273.8 半导体等离子体参数非侵入性测量和分析的方法和设备
978 03815550.8 等离子体参数非侵入测量和分析的方法和装置
979 03815562.1 对半导体处理参数进行非侵入式测量和分析的方法和装置
980 03815546.X 具有改进型抗蚀剂及/或蚀刻轮廓特征的介电膜用蚀刻方法
981 03817188.0 移动靶等离子注入系统和方法
982 03817249.6 高温下各向异性地蚀刻多层结构
983 03817194.5 用于微波感应的等离子体的等离子体焰炬
984 200510024801.2 耐磨防锈铁锅的生产工艺
985 200410010510.3 阳极氧化铝模板中一维硅纳米结构的制备方法
986 200510016682.6 一种添加改良剂的萃取体系分离稀土元素的工艺
987 200510059147.9 等离子体处理设备和等离子体处理方法
988 03818224.6 马氏体时效型钢的等离子渗氮、电动剃须刀的剃刀盖、用该钢制造的切削器具以及一种电动剃须刀
989 03817755.2 驱动等离子体显示板
990 03818209.2 离子注入系统的离子源和同轴感应耦合器
991 03818433.8 用于调整带电的法拉第屏蔽上的电压的方法
992 03818325.0 质谱分析设备和方法
993 03817980.6 等离子体处理系统中的整合阶梯式统计过程控制
994 200410073573.3 引入磁场的室内空气净化方法
995 200410074970.2 用于反应溅射的设备
996 200510052581.4 带有改进脉冲功率系统的等离子聚集光源
997 03818917.8 用作光致抗蚀剂的氟化聚合物和用于微石印术的方法

提示: 完整目录欢迎来邮件索取!